公开(公告)号：US08153184B2

公开(公告)日：2012-04-10

申请号：US11312547

申请日：2005-12-21

申请人： Jun-yeob Lee ,  Tae-min Kang ,  Jang-hyuk Kwon ,  Seong-taek Lee ,  Jun-hyo Chung ,  Eung-jin Kim

发明人： Jun-yeob Lee ,  Tae-min Kang ,  Jang-hyuk Kwon ,  Seong-taek Lee ,  Jun-hyo Chung ,  Eung-jin Kim

IPC分类号： B05D5/06

CPC分类号： H01L51/0013 ,  H01L27/3244

摘要： A method for fabricating a display device includes providing a substrate, forming an underlying layer over the substrate, forming an insulating layer over the substrate exposing the underlying layer, and forming an organic EL layer on the exposed portion of the underlying layer by a Laser Induced Thermal Imaging (LITI) method, wherein a thickness of the insulating layer is less than 500 nm.

摘要翻译： 一种用于制造显示装置的方法包括提供衬底，在衬底上形成下层，在衬底上形成暴露下层的绝缘层，以及通过激光诱导在底层的暴露部分上形成有机EL层 热成像（LITI）方法，其中绝缘层的厚度小于500nm。

公开(公告)号：US20060166586A1

公开(公告)日：2006-07-27

申请号：US11312547

申请日：2005-12-21

申请人： Jun-yeob Lee ,  Tae-min Kang ,  Jang-jyuk Kwon ,  Seong-taek Lee ,  Jun-hyo Chung ,  Eung-jin Kim

发明人： Jun-yeob Lee ,  Tae-min Kang ,  Jang-jyuk Kwon ,  Seong-taek Lee ,  Jun-hyo Chung ,  Eung-jin Kim

IPC分类号： H01J9/24 ,  H01J9/00

CPC分类号： H01L51/0013 ,  H01L27/3244

摘要： A method for fabricating a display device includes providing a substrate, forming an underlying layer over the substrate, forming an insulating layer over the substrate exposing the underlying layer, and forming an organic EL layer on the exposed portion of the underlying layer by a Laser Induced Thermal Imaging (LITI) method, wherein a thickness of the insulating layer is less than 500 nm.

摘要翻译： 一种用于制造显示装置的方法包括提供衬底，在衬底上形成下层，在衬底上形成暴露下层的绝缘层，以及通过激光诱导在底层的暴露部分上形成有机EL层 热成像（LITI）方法，其中绝缘层的厚度小于500nm。

公开(公告)号：US06242140B1

公开(公告)日：2001-06-05

申请号：US09340665

申请日：1999-06-29

申请人： Jang-hyuk Kwon ,  Si-hyun Lee ,  Joo-sang Park ,  Lee-gon Kim ,  Seong-taek Lee ,  Young-sook Choi ,  Tae-min Kang ,  Kyu-hwan Choi

发明人： Jang-hyuk Kwon ,  Si-hyun Lee ,  Joo-sang Park ,  Lee-gon Kim ,  Seong-taek Lee ,  Young-sook Choi ,  Tae-min Kang ,  Kyu-hwan Choi

IPC分类号： G02B520

CPC分类号： G02B5/201 ,  G02F1/133516 ,  Y10S430/146

摘要： A method for manufacturing a color filter by thermal transfer using a laser beam with uniform energy distribution. The method includes forming a black matrix pattern on a substrate by photolithography. A transfer film having thermal color layers is placed on the substrate, and a laser beam with uniform energy distribution irradiates the transfer film to transfer the color layers onto the substrate. The substrate onto which the color layer has been transferred, is cured at 200˜300° C. Therefore, by using the laser beam with uniform energy distribution, or a laser beam which scans by dithering, for the thermal transfer, the quality of an image formed at the edges of the is improved and the surface roughness is reduced, resulting in an excellent color filter.

摘要翻译： 一种使用具有均匀能量分布的激光束通过热转印制造滤色器的方法。 该方法包括通过光刻法在衬底上形成黑矩阵图案。 具有热色层的转印膜被放置在基板上，并且具有均匀能量分布的激光束照射转印膜以将着色层转印到基板上。 已经转印有色层的基板在200〜300℃下固化。因此，通过使用具有均匀能量分布的激光束或通过抖动进行扫描的激光束进行热转印，其质量 在边缘形成的图像被改善，并且表面粗糙度减小，导致出色的滤色器。

公开(公告)号：US5994028A

公开(公告)日：1999-11-30

申请号：US16427

申请日：1998-01-30

申请人： Seong-taek Lee

发明人： Seong-taek Lee

IPC分类号： B41M5/382 ,  B32B27/08 ,  B32B27/32 ,  B41M5/40 ,  B41M5/41 ,  B41M5/42 ,  B41M5/44 ,  G03F7/34

CPC分类号： B41M5/44 ,  B41M5/41 ,  Y10S430/146 ,  Y10S430/165

摘要： A thermal transfer film is provided. The thermal transfer film having a support layer, light absorbing layer and a transfer layer further includes an insulating layer between the support layer and the light absorbing layer. The reverse transmission of heat is minimized, thereby improving the thermal energy transmission efficiency from the light absorbing layer to the transfer layer and performing a transfer process efficiently. Therefore, the quality of an image is enhanced.

摘要翻译： 提供热转印膜。 具有支撑层，光吸收层和转印层的热转印膜还包括在支撑层和光吸收层之间的绝缘层。 热的反向传输最小化，从而提高从光吸收层到转印层的热能传输效率，并有效地进行转印过程。 因此，图像的质量得到提高。