公开(公告)号：US20060261290A1

公开(公告)日：2006-11-23

申请号：US11133460

申请日：2005-05-20

申请人： Maarten Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Banine ,  Arnoud Wassink ,  Derk Klunder

发明人： Maarten Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Banine ,  Arnoud Wassink ,  Derk Klunder

IPC分类号： A61N5/00

CPC分类号： G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166

摘要： A radiation system for providing a projection beam of radiation in a lithographic apparatus is disclosed. The radiation system includes an EUV source for providing EUV radiation, and a contamination barrier that includes a plurality of foil plates for trapping contaminant material coming from the EUV source. The foil plates are arranged in an optically closed arrangement so that at least one of the foil plates reflects EUV radiation passing the contamination barrier at least one time.

摘要翻译： 公开了一种用于在光刻设备中提供投影辐射束的辐射系统。 辐射系统包括用于提供EUV辐射的EUV源，以及包括用于捕获来自EUV源的污染物质的多个箔板的污染屏障。 箔板以光学关闭的布置布置，使得至少一个箔片板反射至少一次通过污染屏障的EUV辐射。

公开(公告)号：US20070115443A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11285393

申请日：2005-11-23

申请人： Wilhelmus Box ,  Derk Klunder ,  Maarten Wilhelmus Van Herpen ,  Niels Driessen

发明人： Wilhelmus Box ,  Derk Klunder ,  Maarten Wilhelmus Van Herpen ,  Niels Driessen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/70858

摘要： The invention relates to a radiation system for generating a beam of radiation. The radiation system includes an extreme ultraviolet source for generating extreme ultraviolet radiation, a contamination barrier for trapping contamination from the radiation source, and a temperature sensor for sensing a temperature of the contamination barrier.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于产生辐射束的辐射系统。 辐射系统包括用于产生极紫外辐射的极紫外光源，用于捕获来自辐射源的污染物的污染屏障，以及用于感测污染屏障温度的温度传感器。