公开(公告)号：US4532888A

公开(公告)日：1985-08-06

申请号：US518473

申请日：1983-07-29

申请人： Manfred Neumann ,  Henry Morgner ,  Harry Forster ,  Gunter Jasch ,  Wilfried Kunack ,  Martin Godenschweg ,  Peter Unganz

发明人： Manfred Neumann ,  Henry Morgner ,  Harry Forster ,  Gunter Jasch ,  Wilfried Kunack ,  Martin Godenschweg ,  Peter Unganz

IPC分类号： C23C14/30 ,  H01J37/305 ,  C23C13/12

CPC分类号： H01J37/3053 ,  C23C14/30

摘要： Electron-beam (EB) coating of broad strips with improved film quality, and without undue scattering and deflection of the electron beam at long beam paths is accomplished with a shielding mantle, placed between the EB gun and the evaporation crucible, providing vacuum-tight shielding of the beam path from the coating chamber.

摘要翻译： 电子束（EB）涂层具有改善的膜质量，并且在长波束路径下电子束没有不适当的散射和偏转的情况下，用放置在EB喷枪和蒸发坩埚之间的屏蔽罩实现真空密封 光束路径与涂层室的屏蔽。