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1.发明授权公开(公告)号：US08004678B2
公开(公告)日：2011-08-23
申请号：US11823107
申请日：2007-06-26
申请人： Martin Weiss , Brian Kinnear , Telly Koffas , David Fryer , Ming-chuan Yang , William T Blanton
发明人： Martin Weiss , Brian Kinnear , Telly Koffas , David Fryer , Ming-chuan Yang , William T Blanton
CPC分类号： G03F9/7076 , G03F9/7065
摘要： In one embodiment, a wafer alignment system, comprises a radiation source to generate radiation, a radiation directing assembly to direct at least a portion of the radiation onto a surface of a wafer, the radiation having a polarization state, an optical analyzer to collect at least a portion of the radiation reflected from the wafer, the wafer including at least a first region having a first grating pattern oriented in a first direction and at least a second region having a second grating pattern oriented in a second direction, different from the first direction.
摘要翻译： 在一个实施例中，晶片对准系统包括辐射源以产生辐射，辐射导向组件将辐射的至少一部分引导到晶片的表面上，所述辐射具有偏振状态，光学分析器收集在 从晶片反射的辐射的至少一部分，晶片至少包括具有沿第一方向取向的第一光栅图案的第一区域和至少第二区域，具有在第二方向上定向的第二光栅图案，第二区域不同于第一方向 方向。
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2.发明申请公开(公告)号：US20090002706A1
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：US11823107
申请日：2007-06-26
申请人： Martin Weiss , Brian Kinnear , Telly Koffas , David Fryer , Ming-chuan Yang , William T. Blanton
发明人： Martin Weiss , Brian Kinnear , Telly Koffas , David Fryer , Ming-chuan Yang , William T. Blanton
IPC分类号： G01J4/00
CPC分类号： G03F9/7076 , G03F9/7065
摘要： In one embodiment, a wafer alignment system, comprises a radiation source to generate radiation, a radiation directing assembly to direct at least a portion of the radiation onto a surface of a wafer, the radiation having a polarization state, an optical analyzer to collect at least a portion of the radiation reflected from the wafer, the wafer including at least a first region having a first grating pattern oriented in a first direction and at least a second region having a second grating pattern oriented in a second direction, different from the first direction.
摘要翻译： 在一个实施例中，晶片对准系统包括辐射源以产生辐射，辐射导向组件将辐射的至少一部分引导到晶片的表面上，所述辐射具有偏振状态，光学分析器收集在 从晶片反射的辐射的至少一部分，晶片至少包括具有沿第一方向取向的第一光栅图案的第一区域和至少第二区域，具有在第二方向上定向的第二光栅图案，第二区域不同于第一方向 方向。
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