公开(公告)号：US06641937B1

公开(公告)日：2003-11-04

申请号：US09710482

申请日：2000-11-09

申请人： Masato Kiuchi ,  Kensuke Murai ,  Shigeharu Tamura ,  Norimasa Umesaki ,  Jiro Matsuo ,  Isao Yamada

发明人： Masato Kiuchi ,  Kensuke Murai ,  Shigeharu Tamura ,  Norimasa Umesaki ,  Jiro Matsuo ,  Isao Yamada

IPC分类号： B32B1500

CPC分类号： C23C14/0676 ,  C23C14/0031 ,  C23C14/086 ,  C23C30/00 ,  G02F1/13439 ,  H01B1/08 ,  Y10T428/1055

摘要： The present invention is for a transparent conductive film of nitrogen-containing indium tin oxide 5 nm to 100 &mgr;m thick formed on a substrate. The process for producing the transparent film includes exciting the surface of the substrate in a vacuum and depositing vaporized indium tin oxide on the surface of the substrate. The surface may be excited with irradiation with an ion beam. The indium tin oxide may be deposited through vacuum deposition, laser abrasion, ion plating, ion beam deposition, or chemical vapor deposition. Vapor deposition of indium tin oxide may be performed using a sintered product of indium oxide and tin oxide or with indium metal and tin metal.

摘要翻译： 本发明是在基板上形成5nm〜100μm厚的含氮铟锡氧化物的透明导电膜。 制造透明膜的方法包括在真空中激发衬底的表面并在衬底的表面上沉积蒸发的氧化铟锡。 可以用离子束照射激发表面。 铟锡氧化物可以通过真空沉积，激光磨蚀，离子镀，离子束沉积或化学气相沉积沉积。 铟锡氧化物的气相沉积可以使用氧化铟和氧化锡的烧结产物或铟金属和锡金属进行。

公开(公告)号：US4976806A

公开(公告)日：1990-12-11

申请号：US57522

申请日：1987-07-29

申请人： Nobuya Iwamoto ,  Norimasa Umesaki ,  Hiroaki Hidaka ,  Yukio Haibara

发明人： Nobuya Iwamoto ,  Norimasa Umesaki ,  Hiroaki Hidaka ,  Yukio Haibara

IPC分类号： C04B37/00 ,  C04B37/02

CPC分类号： C04B37/005 ,  C04B37/003 ,  C04B37/023 ,  C04B37/025 ,  C04B2237/06 ,  C04B2237/062 ,  C04B2237/068 ,  C04B2237/123 ,  C04B2237/124 ,  C04B2237/125 ,  C04B2237/363 ,  C04B2237/368 ,  C04B2237/406 ,  C04B2237/562 ,  C04B2237/706 ,  C04B2237/708 ,  C04B2237/72 ,  C04B2237/80 ,  C04B2237/84 ,  Y10T428/12576 ,  Y10T428/12618

摘要： A bonding composition comprising a metal oxide melt comprising (a) CaO, (b) SiO.sub.2 and/or Al.sub.2 O.sub.3, and (c) a metal oxide selected from TiO.sub.2, ZrO.sub.2, Cr.sub.2 O.sub.3, HfO.sub.2, Nb.sub.2 O.sub.3 and Ta.sub.2 O.sub.5 is melt-bonded on the surface of a ceramic material, and the ceramic material is bonded to an adherent, if necessary through at least one layer selected from a plating layer, a solder layer, and a buffer layer. In this manner, a strong bonding can be very easily obtained.

公开(公告)号：US4952454A

公开(公告)日：1990-08-28

申请号：US207620

申请日：1988-06-16

申请人： Nobuya Iwamoto ,  Norimasa Umesaki

发明人： Nobuya Iwamoto ,  Norimasa Umesaki

IPC分类号： C04B37/00 ,  C04B37/02

CPC分类号： C04B37/005 ,  C04B37/003 ,  C04B37/023 ,  C04B37/025 ,  C04B2237/06 ,  C04B2237/062 ,  C04B2237/068 ,  C04B2237/123 ,  C04B2237/124 ,  C04B2237/125 ,  C04B2237/363 ,  C04B2237/368 ,  C04B2237/406 ,  C04B2237/562 ,  C04B2237/706 ,  C04B2237/708 ,  C04B2237/72 ,  C04B2237/80 ,  C04B2237/84 ,  Y10T428/12576 ,  Y10T428/12618

摘要： A bonding composition comprising a metal oxide melt comprising (a) CaO, (b) SiO.sub.2 and/or Al.sub.2 O.sub.3, and (c) a metal oxide selected from TiO.sub.2, ZrO.sub.2, Cr.sub.2 O.sub.3, HfO.sub.2, Nb.sub.2 O.sub.3 and Ta.sub.2 O.sub.5 is melt-bonded on the surface of a ceramic material, and the ceramic material is bonded to an adherend, if necessary through at least one layer selected from a plating layer, a solder layer, and a buffer layer. In this manner, a strong bonding can be very easily obtained.

摘要翻译： 包含（a）CaO，（b）SiO 2和/或Al 2 O 3的金属氧化物熔体和（c）选自TiO 2，ZrO 2，Cr 2 O 3，HfO 2，Nb 2 O 3和Ta 2 O 5中的金属氧化物的金属氧化物熔体的粘合组合物在表面上熔融粘合 的陶瓷材料，并且如果需要，陶瓷材料通过选自镀层，焊料层和缓冲层中的至少一层结合到被粘物。 以这种方式，可以非常容易地获得强结合。