-
1.发明授权Continuous sloped phase edge architecture fabrication technique using electron or optical beam blur for single phase shift mask ret 失效使用电子或光束模糊的连续倾斜相位架构制造技术，用于单相位移掩模公开(公告)号：US07695872B2
公开(公告)日：2010-04-13
申请号：US11894795
申请日：2007-08-20
申请人： Matt F. Vernon , Wen-Hao Cheng
发明人： Matt F. Vernon , Wen-Hao Cheng
IPC分类号： G03F1/00
摘要： A phase shift mask may include boundaries between phase shift regions with continuous sloped phase edges. The continuous sloped phase edges may be produced by introducing a predetermined degree of defocus into a beam used during production of the mask to image the pattern on the mask. Such a phase shift mask may be “trimless”, i.e., not require a corresponding binary “trim” mask for a second exposure to remove phase conflicts after exposure with the phase shift mask.
摘要翻译： 相移掩模可以包括具有连续倾斜相位边缘的相移区域之间的边界。 连续倾斜的相位边缘可以通过将预定程度的散焦引入到在制作掩模期间使用的光束中以在掩模上成像以形成图案来产生。 这样的相移掩模可以是“无偏转”的，即不需要用于第二曝光的对应的二进制“修剪”掩模，以消除用相移掩模曝光之后的相位冲突。
-
2.发明授权Continuous sloped phase edge architecture fabrication technique using electron or optical beam blur for single phase shift mask ret 失效使用电子或光束模糊的连续倾斜相位架构制造技术，用于单相位移掩模公开(公告)号：US07282306B2
公开(公告)日：2007-10-16
申请号：US10808063
申请日：2004-03-26
申请人： Matt F. Vernon , Wen-Hao Cheng
发明人： Matt F. Vernon , Wen-Hao Cheng
IPC分类号： G03F1/00
摘要： A phase shift mask may include boundaries between phase shift regions with continuous sloped phase edges. The continuous sloped phase edges may be produced by introducing a predetermined degree of defocus into a beam used during production of the mask to image the pattern on the mask. Such a phase shift mask may be “trimless”, i.e., not require a corresponding binary “trim” mask for a second exposure to remove phase conflicts after exposure with the phase shift mask.
摘要翻译： 相移掩模可以包括具有连续倾斜相位边缘的相移区域之间的边界。 连续倾斜的相位边缘可以通过将预定程度的散焦引入到在制作掩模期间使用的光束中以在掩模上成像来产生。 这样的相移掩模可以是“无偏转”的，即不需要用于第二曝光的对应的二进制“修剪”掩模，以消除用相移掩模曝光之后的相位冲突。
-
搜索结果
2 条记录 (耗时 0.017 秒)
