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1.发明申请Repair of photolithography masks by sub-wavelength artificial grating technology 有权通过亚波长人造光栅技术修复光刻掩模公开(公告)号：US20050214653A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：US10810385
申请日：2004-03-26
申请人： Ming Lu , King-chang Shu , Bin-chang Chang , Li-wei Kung
发明人： Ming Lu , King-chang Shu , Bin-chang Chang , Li-wei Kung
CPC分类号： G03F1/72
摘要： A method is disclosed for repairing mask damage defects. After determining topographical information of a defect on a mask, one or more grating repair specifications are determined based on an optical simulation using the topographical information. One or more artificial grating areas are formed on one or more sides of the defect based on the grating repair specification.
摘要翻译： 公开了一种用于修复面罩损伤缺陷的方法。 在确定掩模上的缺陷的外形信息之后，基于使用地形信息的光学模拟来确定一个或多个光栅修复规范。 基于光栅修复规范，在缺陷的一个或多个侧面上形成一个或多个人造光栅区域。
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2.发明授权Repair of photolithography masks by sub-wavelength artificial grating technology 有权通过亚波长人造光栅技术修复光刻掩模公开(公告)号：US07303841B2
公开(公告)日：2007-12-04
申请号：US10810385
申请日：2004-03-26
申请人： Ming Lu , King-chang Shu , Bin-chang Chang , Li-wei Kung
发明人： Ming Lu , King-chang Shu , Bin-chang Chang , Li-wei Kung
CPC分类号： G03F1/72
摘要： A method is disclosed for repairing mask damage defects. After determining topographical information of a defect on a mask, one or more grating repair specifications are determined based on an optical simulation using the topographical information. One or more artificial grating areas are formed on one or more sides of the defect based on the grating repair specification.
摘要翻译： 公开了一种用于修复面罩损伤缺陷的方法。 在确定掩模上的缺陷的外形信息之后，基于使用地形信息的光学模拟来确定一个或多个光栅修复规范。 基于光栅修复规范，在缺陷的一个或多个侧面上形成一个或多个人造光栅区域。
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