公开(公告)号：US4719357A

公开(公告)日：1988-01-12

申请号：US8134

申请日：1987-01-22

申请人： Naoki Ayata ,  Tadashi Konuki ,  Masao Kosugi

发明人： Naoki Ayata ,  Tadashi Konuki ,  Masao Kosugi

IPC分类号： G03F9/00 ,  G01B11/27

CPC分类号： G03F9/7069 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7092

摘要： A semiconductor circuit manufacturing apparatus wherein a wafer has a plurality of zones to be exposed one by one to a pattern of a mask, including detector apparatus for detecting a relative position between the mask and a said zone to be exposed and producing outputs representative of the relative position; a device for exposing the said zone to the mask pattern after they are aligned; a device for producing information for identifying said zone which is going to be exposed; a selector, responsive to said information producing device, for selecting all or a part of the outputs of said detecting apparatus; and a device for determining, on the basis of the selected outputs of said detecting apparatus, a positional deviation between the mask pattern and the zone to be exposed thereto.

摘要翻译： 一种半导体电路制造装置，其中晶片具有要逐个暴露于掩模图案的多个区域，包括用于检测掩模和所述待曝光区域之间的相对位置的检测器装置，并且产生代表 相对位置; 用于在所述掩模图案对准之后将所述区域暴露于所述掩模图案的装置; 用于产生用于识别将被暴露的区域的信息的装置; 响应于所述信息产生装置的选择器，用于选择所述检测装置的全部或一部分输出; 以及用于根据所述检测装置的所选择的输出确定掩模图案和要暴露于其之间的区域之间的位置偏差的装置。

公开(公告)号：US4553834A

公开(公告)日：1985-11-19

申请号：US554633

申请日：1983-11-23

申请人： Naoki Ayata ,  Tadashi Konuki

发明人： Naoki Ayata ,  Tadashi Konuki

IPC分类号： H01L21/30 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/7075 ,  G03F9/70

摘要： A mask aligner for aligning a wafer with a mask and exposing the wafer to an image of the mask, includes an illumination source for illuminating the mask, plural devices for executing plural functions of the aligner, a controller for controlling operation of the apparatus in accordance with a predetermined routine, a detector for automatically detecting a malfunction, a memory of plural routines for disposing of one kind of malfunction; a selector for manually selecting one of the routines; and another controller for controlling the apparatus in accordance with the selected routine, when the detector detects a malfunction.

摘要翻译： 用于将晶片与掩模对准并将晶片暴露于掩模的图像的掩模对准器包括用于照亮掩模的照明源，用于执行对准器的多个功能的多个设备，用于根据该控制器控制设备的操作的控制器 具有预定程序，用于自动检测故障的检测器，用于处理一种故障的多个程序的存储器; 用于手动选择其中一个例程的选择器; 以及另一个控制器，用于当检测器检测到故障时根据所选程序控制设备。

公开(公告)号：US4530587A

公开(公告)日：1985-07-23

申请号：US555525

申请日：1983-11-28

申请人： Masao Kosugi ,  Tadashi Konuki ,  Kazuo Iizuka

发明人： Masao Kosugi ,  Tadashi Konuki ,  Kazuo Iizuka

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70425 ,  G03F7/70433

摘要： A mask aligner for stepping and exposing a wafer in accordance with a shot arrangement, including an input device to which wafer dimension, chip dimension and a chip pattern for one shot are inputted, a selector for selecting a shot arrangement mode from plural shot arrangement modes based on the above input signals, a controller for effecting the shots in accordance with the selected modes to minimize the time required for exposing the one entire wafer or to maximize the number of chips exposed per unit.

摘要翻译： 一种掩模对准器，用于根据投射装置进行步进和曝光晶片，包括输入装置，晶片尺寸，芯片尺寸和用于一次镜头的芯片图案被输入到所述输入装置中，用于从多个拍摄装置模式中选择拍摄装置模式的选择器 基于上述输入信号，控制器根据所选择的模式进行拍摄，以最小化暴露一个整个晶片所需的时间或者使每单位曝光的芯片数量最大化。