公开(公告)号：US08264535B2

公开(公告)日：2012-09-11

申请号：US12597247

申请日：2008-07-11

申请人： Oliver Kienzle ,  Rigo Richter ,  Norbert Rosenkranz ,  Yuji Kobiyama ,  Thomas Scheruebl

发明人： Oliver Kienzle ,  Rigo Richter ,  Norbert Rosenkranz ,  Yuji Kobiyama ,  Thomas Scheruebl

IPC分类号： H04N7/18

CPC分类号： G03F1/72 ,  G03F1/30

摘要： The invention relates to a method for analyzing a group of at least two masks for photolithography, wherein each of the masks comprises a substructure of a total structure, which is to be introduced in a layer of the wafer in the lithographic process, and the total structure is introduced in the layer of the wafer by introducing the substructures in sequence. In this method, a first aerial image of a first one of the at least two masks is recorded, digitized and stored in a data structure. Then, a second aerial image of a second one of the at least two masks is recorded, digitized and stored in a data structure. A combination image is generated from the data of the first and second aerial images, which combination image is represented and/or evaluated.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于分析用于光刻的一组至少两个掩模的方法，其中每个掩模包括总结构的子结构，其将在光刻工艺中被引入晶片的层中，并且总共 通过依次引入子结构，在晶片层中引入结构。 在该方法中，将至少两个掩模中的第一个的第一空间图像记录，数字化并存储在数据结构中。 然后，将至少两个掩模中的第二个的第二个空间图像记录，数字化并存储在数据结构中。 从第一和第二空间图像的数据生成组合图像，该组合图像被表示和/或评估。

公开(公告)号：US20100157046A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12597247

申请日：2008-07-11

申请人： Oliver Kienzle ,  Rigo Richter ,  Norbert Rosenkranz ,  Yuji Kobiyama ,  Thomas Scheruebl

发明人： Oliver Kienzle ,  Rigo Richter ,  Norbert Rosenkranz ,  Yuji Kobiyama ,  Thomas Scheruebl

IPC分类号： H04N7/18 ,  G06K9/62

CPC分类号： G03F1/72 ,  G03F1/30

摘要： The invention relates to a method for analyzing a group of at least two masks for photolithography, wherein each of the masks comprises a substructure of a total structure, which is to be introduced in a layer of the wafer in the lithographic process, and the total structure is introduced in the layer of the wafer by introducing the substructures in sequence. In this method, a first aerial image of a first one of the at least two masks is recorded, digitized and stored in a data structure. Then, a second aerial image of a second one of the at least two masks is recorded, digitized and stored in a data structure. A combination image is generated from the data of the first and second aerial images, which combination image is represented and/or evaluated.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于分析用于光刻的一组至少两个掩模的方法，其中每个掩模包括总结构的子结构，其将在光刻工艺中被引入晶片的层中，并且总共 通过依次引入子结构，在晶片层中引入结构。 在该方法中，将至少两个掩模中的第一个的第一空间图像记录，数字化并存储在数据结构中。 然后，将至少两个掩模中的第二个的第二个空间图像记录，数字化并存储在数据结构中。 从第一和第二空间图像的数据生成组合图像，该组合图像被表示和/或评估。