公开(公告)号：US07884919B2

公开(公告)日：2011-02-08

申请号：US11350278

申请日：2006-02-09

申请人： Peter Hempenius ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Youssef Karel Maria De Vos

发明人： Peter Hempenius ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Youssef Karel Maria De Vos

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/707

摘要： A device manufacturing method includes transferring a pattern from a patterning device onto a substrate. The method includes bringing the patterning device and the support together, and applying a substantially stationary force between the patterning device and the support to hold the patterning device. The patterning device is now excited by a substantially dynamic force to enable a micro slipping thereof. Then, the patterning device is aligned, and the pattern is transferred from the patterning device onto the substrate. The patterning device may be excited with an alternating acceleration. When the patterning device is excited, the patterning device is allowed to settle with respect to the support, thereby improving a friction therebetween to reduce a risk of slipping or local slipping of the patterning device.

摘要翻译： 一种器件制造方法包括将图案从图案形成装置转移到衬底上。 该方法包括将图案形成装置和支撑件组合在一起，并且在图案形成装置和支撑件之间施加基本上静止的力以保持图案形成装置。 图案形成装置现在被基本上动态的力激发以使其能够滑动。 然后，图案形成装置对准，并且图案从图案形成装置转移到基板上。 图案形成装置可以用交替的加速度激发。 当图案形成装置被激发时，允许图案形成装置相对于支撑件沉降，从而改善它们之间的摩擦，以减少图案形成装置的滑动或局部滑动的风险。

公开(公告)号：US20070182947A1

公开(公告)日：2007-08-09

申请号：US11350278

申请日：2006-02-09

申请人： Peter Hempenius ,  Marcel Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Donders ,  Youssef De Vos

发明人： Peter Hempenius ,  Marcel Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Donders ,  Youssef De Vos

IPC分类号： G03B27/62

CPC分类号： G03F7/707

摘要： A device manufacturing method includes transferring a pattern from a patterning device onto a substrate. The method includes bringing the patterning device and the support together, and applying a substantially stationary force between the patterning device and the support to hold the patterning device. The patterning device is now excited by a substantially dynamic force to enable a micro slipping thereof. Then, the patterning device is aligned, and the pattern is transferred from the patterning device onto the substrate. The patterning device may be excited with an alternating acceleration. When the patterning device is excited, the patterning device is allowed to settle with respect to the support, thereby improving a friction therebetween to reduce a risk of slipping or local slipping of the patterning device.

摘要翻译： 一种器件制造方法包括将图案从图案形成装置转移到衬底上。 该方法包括将图案形成装置和支撑件组合在一起，并且在图案形成装置和支撑件之间施加基本上静止的力以保持图案形成装置。 图案形成装置现在被基本上动态的力激发以使其能够滑动。 然后，图案形成装置对准，并且图案从图案形成装置转移到基板上。 图案形成装置可以用交替的加速度激发。 当图案形成装置被激发时，允许图案形成装置相对于支撑件沉降，从而改善它们之间的摩擦，以减少图案形成装置的滑动或局部滑动的风险。