公开(公告)号：US20070254237A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：US11380782

申请日：2006-04-28

申请人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  SEAN BURNS ,  DARIO GOLDFARB ,  DAVID MEDEIROS ,  DIRK PFEIFFER ,  MATT PINNOW ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG

发明人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  SEAN BURNS ,  DARIO GOLDFARB ,  DAVID MEDEIROS ,  DIRK PFEIFFER ,  MATT PINNOW ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a topcoat composition comprising a polymer having a dissolution rate of at least 1500 Å/second in an aqueous alkaline developer, and at least one solvent. The topcoat composition can be used to coat a photoresist layer on a material layer on a substrate, for example, a semiconductor chip. Also disclosed is a method of forming a pattern in the material layer of the coated substrate.

摘要翻译： 公开了一种面漆组合物，其包含在含水碱性显影剂中溶解速率至少为1500埃的聚合物和至少一种溶剂。 面漆组合物可用于在基板上的材料层上涂覆光致抗蚀剂层，例如半导体芯片。 还公开了在涂覆的基材的材料层中形成图案的方法。