公开(公告)号：US09252285B2

公开(公告)日：2016-02-02

申请号：US14249525

申请日：2014-04-10

申请人： Samsung Display Co., Ltd.

发明人： Ki-Seong Seo ,  Sung-Hoon Yang ,  Tae-Young Ahn ,  Sang-Wook Lee ,  Jung-Yun Jo ,  Heon-Sik Ha ,  Jin-Ho Hwang ,  Kyung-Tea Park ,  Jun-Mo Im

IPC分类号： H01L21/26 ,  H01L29/786 ,  H01L29/66

CPC分类号： H01L29/7869 ,  H01L29/66969

摘要： A method of manufacturing a display substrate includes forming a gate electrode on a base substrate, forming an active pattern which includes an oxide semiconductor and overlaps with the gate electrode, forming an etch stopper which partially covers the active pattern, and performing a plasma treatment process to promote a reduction reaction to portions of the active pattern exposed by the etch stopper, thereby forming a source electrode and a drain electrode.

摘要翻译： 制造显示基板的方法包括在基底基板上形成栅电极，形成包括氧化物半导体并与栅电极重叠的有源图案，形成部分覆盖有源图案的蚀刻停止层，以及进行等离子体处理工艺 以促进对由蚀刻停止件暴露的有源图案的部分的还原反应，从而形成源电极和漏电极。