公开(公告)号：US20160116836A1

公开(公告)日：2016-04-28

申请号：US14750651

申请日：2015-06-25

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Inventor： Ho-young Kim ,  Dong-min Kang ,  Sung-bae Kim ,  Hoon Han ,  Hong-kwon Youn ,  Hyo-sun Lee ,  Young-taek Hong

IPC: G03F1/82 ,  C11D7/34 ,  C11D7/26 ,  C11D11/00

CPC classification number: G03F1/82 ,  B08B3/00 ,  B08B3/04 ,  C11D7/26 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047

Abstract: In a method of manufacturing an integrated circuit (IC) device, a photomask is wet-processed using a cleaning composition comprising an organic acid, an oxidizing agent, and deionized water (DIW).

Abstract translation: 在制造集成电路（IC）装置的方法中，使用包含有机酸，氧化剂和去离子水（DIW）的清洁组合物湿光处理光掩模。

公开(公告)号：US09507255B2

公开(公告)日：2016-11-29

申请号：US14750651

申请日：2015-06-25

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Inventor： Ho-young Kim ,  Dong-min Kang ,  Sung-bae Kim ,  Hoon Han ,  Hong-kwon Youn ,  Hyo-sun Lee ,  Young-taek Hong

IPC: C23G1/02 ,  G03F1/82 ,  C11D11/00 ,  C11D7/26 ,  C11D7/34 ,  B08B3/00 ,  B08B3/04

CPC classification number: G03F1/82 ,  B08B3/00 ,  B08B3/04 ,  C11D7/26 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047

Abstract: In a method of manufacturing an integrated circuit (IC) device, a photomask is wet-processed using a cleaning composition comprising an organic acid, an oxidizing agent, and deionized water (DIW).

Abstract translation: 在制造集成电路（IC）装置的方法中，使用包含有机酸，氧化剂和去离子水（DIW）的清洁组合物湿光处理光掩模。