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公开(公告)号：US20080115806A1
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：US11766699
申请日：2007-06-21
申请人： Sang-Yong Yu , Yong-Hoon Kim , Se-Gun Moon , Jae-Hyuck Choi
发明人： Sang-Yong Yu , Yong-Hoon Kim , Se-Gun Moon , Jae-Hyuck Choi
IPC分类号： B08B7/04
CPC分类号： B08B3/04 , G03F1/82 , H01L21/67051
摘要： A photomask cleaning apparatus including a stage supporting a photomask, a cleaning fluid supplying unit configured to supply a cleaning fluid to remove contaminants from the photomask, a cleaning fluid absorbing unit configured to absorb the cleaning fluid supplied from the cleaning fluid supplying unit; and a contaminant removing structure configured to provide a path through which the cleaning fluid flows between the cleaning fluid supplying unit and the cleaning fluid absorbing unit through a surface of the photomask on the stage, and to have an opening aperture through which the cleaning fluid is exposed onto the surface of the photomask so as to remove at least some of the contaminants is provided. Methods of cleaning a photomask are also provided.
摘要翻译： 一种光掩模清洁装置，包括支撑光掩模的台，清洁液供给单元，被配置为提供清洁流体以从所述光掩模中除去污染物;清洗液吸收单元，其构造成吸收从所述清洗液供给单元供给的清洗液; 以及污染物去除结构，其构造成提供清洁流体在清洁流体供应单元和清洁液吸收单元之间通过台架上的光掩模的表面流过的路径，并且具有打开孔，清洁流体通过该开口孔 暴露在光掩模的表面上，以便除去至少一些污染物。 还提供了清洁光掩模的方法。
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公开(公告)号：US20110086296A1
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：US12900691
申请日：2010-10-08
申请人： Se-Gun Moon , Dong-Seok Nam , Hoon Kim
发明人： Se-Gun Moon , Dong-Seok Nam , Hoon Kim
IPC分类号： G03F1/00
摘要： A phase shift mask having a first region and a second region in a transverse direction includes a transparent layer, a phase shift pattern disposed in the first region, a transmittance control layer pattern disposed in the second region, and a shading layer pattern disposed on the transmittance control layer pattern. The phase shift pattern has a first pattern including a transparent material and a second pattern including metal. The phase shift mask may prevent haze effects through a cleaning process using an alkaline cleaning solution.
摘要翻译： 具有第一区域和第二区域的相移掩模包括透明层，设置在第一区域中的相移图案，设置在第二区域中的透射率控制层图案，以及设置在第二区域上的遮光层图案 透光控制层图案。 相移图案具有包括透明材料的第一图案和包括金属的第二图案。 相移掩模可以通过使用碱性清洁溶液的清洁过程来防止雾度效应。
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公开(公告)号：US08361679B2
公开(公告)日：2013-01-29
申请号：US12900691
申请日：2010-10-08
申请人： Se-Gun Moon , Dong-Seok Nam , Hoon Kim
发明人： Se-Gun Moon , Dong-Seok Nam , Hoon Kim
IPC分类号： G03F1/26
摘要： A phase shift mask having a first region and a second region in a transverse direction includes a transparent layer, a phase shift pattern disposed in the first region, a transmittance control layer pattern disposed in the second region, and a shading layer pattern disposed on the transmittance control layer pattern. The phase shift pattern has a first pattern including a transparent material and a second pattern including metal. The phase shift mask may prevent haze effects through a cleaning process using an alkaline cleaning solution.
摘要翻译： 具有第一区域和第二区域的相移掩模包括透明层，设置在第一区域中的相移图案，设置在第二区域中的透射率控制层图案，以及设置在第二区域上的遮光层图案 透光控制层图案。 相移图案具有包括透明材料的第一图案和包括金属的第二图案。 相移掩模可以通过使用碱性清洁溶液的清洁过程来防止雾度效应。
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