公开(公告)号：US5851728A

公开(公告)日：1998-12-22

申请号：US728771

申请日：1996-10-09

申请人： Seong-Ju Kim ,  Joo-Hyeon Park ,  Ki-Dae Kim ,  Dong-Chui Seo

发明人： Seong-Ju Kim ,  Joo-Hyeon Park ,  Ki-Dae Kim ,  Dong-Chui Seo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/106

摘要： A three-component chemical amplified photoresist composition, comprising: an alkali soluble resin; a dissolution inhibitor of aromatic polyhydroxy compound substituted by at least two acid-decomposable radicals; and a photo acid generating agent of an onium salt, which is capable of forming good profiles when exposed to light with a short wavelength and is superior in heat resistance and storage stability.

摘要翻译： 一种三组分化学放大光致抗蚀剂组合物，包括：碱溶性树脂; 由至少两个酸可分解基团取代的芳族多羟基化合物的溶解抑制剂; 以及一种鎓盐的光酸生成剂，其能够在短波长的光下曝光时能够形成良好的轮廓，并且耐热性和储存稳定性优异。