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    Process for preparing silica base for dentifrice
    1.
    发明授权
    Process for preparing silica base for dentifrice 失效
    制备洁齿剂二氧化硅底物的方法

    公开(公告)号：US4581217A

    公开(公告)日：1986-04-08

    申请号：US667487

    申请日：1984-10-17

    申请人： Shozo Shinpo ,  Tetsuo Fushino ,  Akihiro Hachijo ,  Shozo Ohtsu

    发明人： Shozo Shinpo ,  Tetsuo Fushino ,  Akihiro Hachijo ,  Shozo Ohtsu

    IPC分类号： C01B33/187 ,  A61K8/00 ,  A61K8/25 ,  A61Q11/00 ,  C01B33/12 ,  C01B33/193 ,  C01B33/18

    CPC分类号： A61Q11/00 ,  A61K8/25 ,  C01B33/193 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/60

    摘要： Silica base material for dentifrice having excellent transparency, prolonged stability and desired abrasiveness, has specific surface areas measured by BET method and CTAB method of 5-60 m.sup.2 /g respectively with a difference therebetween of less than 40 m.sup.2 /g, and having a refractive index of 142-1.45. This base material can be prepared by reacting an alkali metal silicate solution with hydrochloric acid or sulfuric acid in the presence of an electrolyte in two stages, a silica crystallization stage in which the pH of the reaction system is brought to 10.0, and a neutralization stage in which the pH of the reaction system is brought to 8.0-6.5, completing the neutralization stage within 30 minutes and aging the neutralized mixture for at least 10 minutes. The ratio of the rate of addition of chloride or sulfate ions between the neutralization and crystallization stages is at least 5:3.

    摘要翻译： PCT No.PCT / JP84 / 00071 Sec。 371日期1984年10月17日第 102（e）日期1984年10月17日PCT提交1984年2月28日PCT公布。 第WO84 / 03439号公报 日本1984年9月13日。具有优异透明性，延长稳定性和所需磨损性的洁齿剂的二基底基材料通过BET法和CTAB法分别测得的比表面积为5-60m 2 / g，差异小于40m2 / g，折射率为142-1.45。 该基材可以通过碱金属硅酸盐溶液与盐酸或硫酸在电解质存在下两步制备，其中将二氧化硅结晶阶段的反应体系的pH调至10.0，以及中和阶段 其中反应体系的pH达到8.0-6.5，在30分钟内完成中和阶段，并将中和的混合物老化至少10分钟。 中和和结晶阶段之间氯化物或硫酸根离子的加入比例至少为5：3。

    Silica base for dentifrice and process for its preparation
    2.
    发明授权
    Silica base for dentifrice and process for its preparation 失效
    洁牙剂二氧化硅基料及其制备方法

    公开(公告)号：US4738838A

    公开(公告)日：1988-04-19

    申请号：US906013

    申请日：1986-09-11

    申请人： Shozo Shinpo ,  Tetsuo Fushino ,  Akihiro Hachijo ,  Shozo Ohtsu

    发明人： Shozo Shinpo ,  Tetsuo Fushino ,  Akihiro Hachijo ,  Shozo Ohtsu

    IPC分类号： C01B33/187 ,  A61K8/00 ,  A61K8/25 ,  A61Q11/00 ,  C01B33/12 ,  C01B33/193

    CPC分类号： C01B33/193 ,  A61K8/25 ,  A61Q11/00 ,  C01P2002/02 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/60

    摘要： Silica base material for dentifrice having excellent transparency, prolonged stability, and desired abrasiveness; has a specific surface area of 270-500 m.sup.2 /g as measured by BET method and 5-60 m.sup.2 /g by CTAB method, gives virtually amorphous X-ray diffraction pattern after firing at 1100.degree. C., and has a refractive index of 1.455-1.470. This base material can be prepared by reacting an alkali metal silicate solution with hydrochloric acid or sulfuric acid in the presence of an electrolyte, controlling the ratio of the rate of addition of chloride ion or sulfate ion to be at least 3:2 between the acidification stage in which the pH at the completion of the reaction is brought to 3.5 or less, and the silica crystallization stage in which the pH of the reaction system if brought to 10.0, and carrying out the acidification stage within 30 minutes.

    摘要翻译： 具有优异的透明性，延长的稳定性和所需的磨损性的洁齿剂用二氧化硅基料; 通过BET法测定的比表面积为270〜500m 2 / g，通过CTAB法测定为5-60m 2 / g，在1100℃下烧成后呈现非晶态的X射线衍射图，折射率为 1.455-1.470。 该碱性物质可以通过使碱金属硅酸盐溶液与盐酸或硫酸在电解液存在下反应来制备，从而控制氯化物离子或硫酸根离子的添加​​比例在酸化之前至少为3:2 使反应完成时的pH为3.5以下的阶段，将反应体系的pH值设为10.0的二氧化硅结晶阶段，在30分钟内进行酸化阶段。