公开(公告)号：US09285687B2

公开(公告)日：2016-03-15

申请号：US13608069

申请日：2012-09-10

申请人： Stanislav Y Smirnov ,  Lev Ryzhikov ,  Eric Brian Catey ,  Adel Joobeur ,  David Heald ,  Yevgeniy Konstantinovich Shmarev ,  Richard Jacobs

发明人： Stanislav Y Smirnov ,  Lev Ryzhikov ,  Eric Brian Catey ,  Adel Joobeur ,  David Heald ,  Yevgeniy Konstantinovich Shmarev ,  Richard Jacobs

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70625 ,  G01N21/956 ,  G03F7/70633

摘要： An inspection apparatus includes an illumination system that receives a first beam and produces second and third beams from the first beam and a catadioptric objective that directs the second beam to reflect from a wafer. A first sensor detects a first image created by the reflected second beam. A refractive objective directs the third beam to reflect from the wafer, and a second sensor detects a second image created by the reflected third beam. The first and second images can be used for CD measurements. The second beam can have a spectral range from about 200 nm to about 425 nm, and the third beam can have a spectral range from about 425 nm to about 850 nm. A third sensor may be provide that detects a third image created by the third beam reflected from the wafer. The third image can be used for OV measurements.

摘要翻译： 检查装置包括照明系统，其接收第一光束并产生来自第一光束的第二和第三光束;以及反射折射物镜，其引导第二光束从晶片反射。 第一传感器检测由反射的第二光束产生的第一图像。 折射物镜引导第三光束从晶片反射，第二传感器检测由反射的第三光束产生的第二图像。 第一张和第二张图像可用于CD测量。 第二光束可具有从约200nm至约425nm的光谱范围，并且第三光束可具有约425nm至约850nm的光谱范围。 可以提供第三传感器，其检测由从晶片反射的第三光束产生的第三图像。 第三个图像可用于OV测量。