公开(公告)号：US20100111403A1

公开(公告)日：2010-05-06

申请号：US12619327

申请日：2009-11-16

申请人： Stefan Schineidewind ,  Claus Dietrich ,  Jorg Kiesewetter ,  Michael Teich ,  Thomas Tharigen

发明人： Stefan Schineidewind ,  Claus Dietrich ,  Jorg Kiesewetter ,  Michael Teich ,  Thomas Tharigen

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G06T7/74 ,  G06T2207/30148

摘要： A method is provided for increasing the accuracy of the positioning of a first object relative to a second object. The method overcomes the disadvantageous influence of thermal drift between a first and a second object during a positioning of a first object on a second object. The method finds applications in manufacturing, for example, in the manufacturing of semiconductor components. The method utilizes recognition of structures on the second object which have a minimum structure width. At a first instant, using one recognition procedure, the first object is positioned on the second object in a desired position. The relative displacement of the two objects is determined at the first instant and on at least one subsequent instant. A second recognition procedure may be used for this purpose. The second recognition procedure may have a resolution accuracy which is different than the resolution accuracy of the first resolution procedure. The second recognition procedure may be a pattern recognition method. The relative displacement determined at the second instant is used to correct the positioning of the first and second objects as necessary to maintain a desired position of the two objects.

摘要翻译： 提供了一种用于增加第一物体相对于第二物体的定位精度的方法。 该方法克服了在将第一物体定位在第二物体上时第一和第二物体之间的热漂移的不利影响。 该方法在例如制造半导体部件的制造中得到应用。 该方法利用具有最小结构宽度的第二物体上的结构的识别。 在第一时刻，使用一个识别过程，第一个物体位于第二个物体上所需的位置上。 两个对象的相对位移在第一时刻和至少一个后续时刻确定。 为此目的可以使用第二识别程序。 第二识别程序可以具有与第一解析过程的分辨率精度不同的分辨率精度。 第二识别程序可以是模式识别方法。 在第二时刻确定的相对位移用于根据需要校正第一和第二物体的定位，以保持两个物体的期望位置。