公开(公告)号：US20100196826A1

公开(公告)日：2010-08-05

申请号：US12678639

申请日：2008-09-05

申请人： Stefano Romagnano ,  Gabriele Norcini ,  Giuseppe Li Bassi ,  Marco Visconti ,  Celine Dietlin ,  Xavier Allonas ,  Jean Pierre Fouassier

发明人： Stefano Romagnano ,  Gabriele Norcini ,  Giuseppe Li Bassi ,  Marco Visconti ,  Celine Dietlin ,  Xavier Allonas ,  Jean Pierre Fouassier

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07C333/00 ,  C07C269/00

CPC分类号： C08F2/50 ,  G03F7/031

摘要： Photopolymerisable systems for coatings or photolithography comprising radically photopolimerisable oligomers and/or monomers having ethylenically unsaturated groups and, as photoinitiator, at least one compound of formula (I).

摘要翻译： 用于涂料或光刻的可光聚合体系包括自由基可光聚合的低聚物和/或具有烯属不饱和基团的单体和作为光引发剂的至少一种式（I）的化合物。

公开(公告)号：US20100093883A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12529533

申请日：2008-01-31

申请人： Angelo Casiraghi ,  Marco Visconti ,  Gabriele Norcini ,  Celine Dietlin ,  Xavier Allonas ,  Jean Pierre Fouassier ,  Giuseppe Li Bassi

发明人： Angelo Casiraghi ,  Marco Visconti ,  Gabriele Norcini ,  Celine Dietlin ,  Xavier Allonas ,  Jean Pierre Fouassier ,  Giuseppe Li Bassi

IPC分类号： C08F2/50

CPC分类号： C08F2/50 ,  G03F7/031

摘要： The present invention concerns photopolymerisable systems comprising reactive oligomers and/or monomers having ethylenically unsaturated groups and as photoinitiator at least one hydroxamic ester of Formula (I) or (II) or (III).

摘要翻译： 本发明涉及包含具有烯属不饱和基团的反应性低聚物和/或单体和作为光引发剂的至少一种式（I）或（II）或（III）的异羟肟酸酯的可光聚合体系。