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发明申请
Copolymers, polymer resin composition for buffer layer method of forming a pattern using the same and method of manufacturing a capacitor using the same 有权
标题翻译：共聚物，使用其形成图案的缓冲层的聚合物树脂组合物和使用该共聚物的电容器的制造方法

公开(公告)号：US20090162986A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12379348

申请日：2009-02-19

申请人： Sun-YuI Ahn , Kyong-Rim Kang , Tae-Sung Kim , Young-Ho Kim , Jung-Hoon Lee

发明人： Sun-YuI Ahn , Kyong-Rim Kang , Tae-Sung Kim , Young-Ho Kim , Jung-Hoon Lee

IPC分类号： H01L21/71

CPC分类号： H01L21/32139 , C08F220/06 , C08F220/18 , C08F220/26 , H01L28/91

摘要： The invention is directed to particular polymer compositions that may be generally characterized by the formula: wherein the variables L, M and N represent the relative molar fractions of the monomers and satisfy the expressions 0

摘要翻译： 本发明涉及特定的聚合物组合物，其通常可以由下式表征：其中变量L，M和N表示单体的相对摩尔分数，并满足表达式0