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    Method of forming patterns and/or pattern data for controlling pattern density of semiconductor devices and pattern density controlled semiconductor devices
    1.
    发明申请
    Method of forming patterns and/or pattern data for controlling pattern density of semiconductor devices and pattern density controlled semiconductor devices 审中-公开
    形成用于控制半导体器件和图案密度受控半导体器件的图案密度的图案和/或图案数据的方法

    公开(公告)号：US20070190811A1

    公开(公告)日：2007-08-16

    申请号：US11655222

    申请日：2007-01-19

    申请人： Sung-gyu Park ,  Myoung-jun Jang ,  Ji-young Shin

    发明人： Sung-gyu Park ,  Myoung-jun Jang ,  Ji-young Shin

    IPC分类号： H01L21/00

    CPC分类号： G03F7/70466 ,  H01L21/67253

    摘要： A method of forming a pattern for a semiconductor device includes forming first pattern data, forming second pattern data, forming third pattern data, forming pattern density measurement data including the first, second, and third pattern data, measuring a pattern density of the pattern density measurement data, adjusting shapes of patterns in the third pattern data based on a comparison of the measured density value and a reference density so as to form fourth pattern data, and forming final pattern data including the first, second, and fourth pattern data.

    摘要翻译： 形成半导体器件的图案的方法包括形成第一图案数据，形成第二图案数据，形成第三图案数据，形成包括第一，第二和第三图案数据的图案密度测量数据，测量图案密度的图案密度 测量数据，基于测量的密度值和参考密度的比较来调整第三图案数据中的图案的形状，以形成第四图案数据，以及形成包括第一，第二和第四图案数据的最终图案数据。