公开(公告)号：US08647797B2

公开(公告)日：2014-02-11

申请号：US13261175

申请日：2010-08-06

申请人： Takaaki Ishii ,  Tomas Hülsmann ,  Tobias Hickmann

发明人： Takaaki Ishii ,  Tomas Hülsmann ,  Tobias Hickmann

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70783

摘要： The present application describes a method and a device for keeping the mask dimensions of a mask (6) constant in the mask plane in lithography. The mask (6) is heated due to the exposure during lithography. By means of thermal and/or mechanical methods, the dimensions of the mask (6) are kept constant. It is possible to use additional methods or devices, e.g. an air cooler (17) or an air heater (17), in order to prevent a change in the mask dimensions in the mask plane.

摘要翻译： 本申请描述了一种用于在光刻中保持掩模（6）的掩模尺寸在掩模平面中恒定的方法和装置。 掩模（6）由于在光刻期间的曝光而被加热。 通过热和/或机械方法，掩模（6）的尺寸保持恒定。 可以使用附加的方法或装置，例如 空气冷却器（17）或空气加热器（17），以防止掩模平面中的掩模尺寸的变化。

公开(公告)号：US20120141928A1

公开(公告)日：2012-06-07

申请号：US13261175

申请日：2010-08-06

申请人： Takaaki Ishii ,  Tomas Hülsmann ,  Tobias Hickmann

发明人： Takaaki Ishii ,  Tomas Hülsmann ,  Tobias Hickmann

IPC分类号： G03F1/72 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70783

摘要： The present application describes a method and a device for keeping the mask dimensions of a mask (6) constant in the mask plane in lithography. The mask (6) is heated due to the exposure during lithography. By means of thermal and/or mechanical methods, the dimensions of the mask (6) are kept constant. It is possible to use additional methods or devices, e.g. an air cooler (17) or an air heater (17), in order to prevent a change in the mask dimensions in the mask plane. (FIG. 1).

摘要翻译： 本申请描述了一种用于在光刻中保持掩模（6）的掩模尺寸在掩模平面中恒定的方法和装置。 掩模（6）由于在光刻期间的曝光而被加热。 通过热和/或机械方法，掩模（6）的尺寸保持恒定。 可以使用附加的方法或装置，例如 空气冷却器（17）或空气加热器（17），以防止掩模平面中的掩模尺寸的变化。 （图。1）。