公开(公告)号：US20120176036A1

公开(公告)日：2012-07-12

申请号：US13419177

申请日：2012-03-13

申请人： Takeshi ASAYAMA ,  Kouji Kakizaki ,  Akira Endo ,  Shinji Nagai

发明人： Takeshi ASAYAMA ,  Kouji Kakizaki ,  Akira Endo ,  Shinji Nagai

IPC分类号： H05H1/46

CPC分类号： H05G2/008 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005

摘要： An extreme ultraviolet light source apparatus generating an extreme ultraviolet light from plasma generated by irradiating a target material with a laser light within a chamber, and controlling a flow of ions generated together with the extreme ultraviolet light using a magnetic field or an electric field, the extreme ultraviolet light source apparatus comprises an ion collector device collecting the ion via an aperture arranged at a side of the chamber, and an interrupting mechanism interrupting movement of a sputtered particle in a direction toward the aperture, the sputtered particle generated at an ion collision surface collided with the ion in the ion collector device.

摘要翻译： 一种极紫外光源装置，通过在室内产生通过用激光照射目标材料而产生的等离子体的极紫外光，并且利用磁场或电场来控制与极紫外光一起产生的离子的流动， 极紫外光源装置包括离子收集器装置，该离子收集器装置通过布置在腔室一侧的孔收集离子，以及中断机构阻止溅射颗粒朝向孔的方向移动，溅射粒子在离子碰撞面 与离子收集器装置中的离子相撞。