公开(公告)号：US20140356785A1

公开(公告)日：2014-12-04

申请号：US13907789

申请日：2013-05-31

Applicant: The Dow Chemical Company

Inventor： William Williams, III ,  Cong Liu ,  Cheng-Bai Xu

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: New photoresist compositions are provided that comprise a carbamate compound that comprises 1) a carbamate group and 2) an ester group. Preferred photoresists of the invention may comprise a resin with acid-labile groups; an acid generator compound; and a carbamate compound that can function to decrease undesired photogenerated-acid diffusion out of unexposed regions of a photoresist coating layer.

Abstract translation: 提供新的光致抗蚀剂组合物，其包含氨基甲酸酯化合物，其包含1）氨基甲酸酯基团和2）酯基团。 本发明优选的光致抗蚀剂可以包含具有酸不稳定基团的树脂; 酸产生剂化合物; 以及氨基甲酸酯化合物，其可用于减少光致抗蚀剂涂层的未曝光区域内的不期望的光生酸扩散。