公开(公告)号：US08138060B2

公开(公告)日：2012-03-20

申请号：US12258850

申请日：2008-10-27

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

IPC分类号： B32B27/32 ,  B32B9/04 ,  B32B13/04 ,  B32B9/00 ,  B32B19/00

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C18/1216 ,  C23C24/04

摘要： A wafer has a rare earth oxide layer disposed, typically sprayed, on a substrate. It is useful as a dummy wafer in a plasma etching or deposition system.

摘要翻译： 晶片具有通常喷涂在基板上的稀土氧化物层。 作为等离子体蚀刻或沉积系统中的虚设晶片是有用的。

公开(公告)号：US08337956B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US13331180

申请日：2011-12-20

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

IPC分类号： B05D3/02 ,  B05D3/12 ,  B05D1/36 ,  B05D7/00 ,  C23C4/04

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C18/1216 ,  C23C24/04

摘要： A wafer has a rare earth oxide layer disposed, typically sprayed, on a substrate. It is useful as a dummy wafer in a plasma etching or deposition system.

公开(公告)号：US20120088034A1

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：US13331180

申请日：2011-12-20

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

IPC分类号： B05D7/00 ,  C23C4/10 ,  C23C4/04 ,  B05D3/02 ,  B05D3/00

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C18/1216 ,  C23C24/04

摘要： A wafer has a rare earth oxide layer disposed, typically sprayed, on a substrate. It is useful as a dummy wafer in a plasma etching or deposition system.

摘要翻译： 晶片具有通常喷涂在基板上的稀土氧化物层。 作为等离子体蚀刻或沉积系统中的虚设晶片是有用的。

公开(公告)号：US07816013B2

公开(公告)日：2010-10-19

申请号：US12326310

申请日：2008-12-02

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano ,  Takao Maeda

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano ,  Takao Maeda

IPC分类号： B32B9/04 ,  B32B9/06 ,  B32B13/04

CPC分类号： H01L21/02002

摘要： A wafer has a rare earth fluoride coating disposed, typically sprayed on a substrate as an outermost layer, the rare earth fluoride being selected from lanthanoid fluorides, yttrium fluoride, and scandium fluoride. It is useful as a dummy wafer in a plasma etching or deposition system.

摘要翻译： 晶片具有通常喷涂在作为最外层的基板上的稀土氟化物涂层，稀土氟化物选自镧系氟化物，氟化钇和氟化钪。 作为等离子体蚀刻或沉积系统中的虚设晶片是有用的。

公开(公告)号：US07507481B2

公开(公告)日：2009-03-24

申请号：US10715473

申请日：2003-11-19

申请人： Noriaki Hamaya ,  Masaru Konya ,  Noboru Yamamoto

发明人： Noriaki Hamaya ,  Masaru Konya ,  Noboru Yamamoto

IPC分类号： B32B9/00

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/11 ,  C23C28/042 ,  C23C30/00

摘要： A coated member comprising a substrate of Mo, Ta, W, Zr or carbon and a coating of rare earth-containing oxide including a surface layer having a Vickers hardness of at least 50; or a coated member comprising a substrate having a coefficient of linear expansion of at least 4×10−6 (1/K) and a coating of rare earth-containing oxide thereon is heat resistant and useful as a jig for use in the sintering of powder metallurgical metal, cermet and ceramic materials.

摘要翻译： 一种包含Mo，Ta，W，Zr或碳的基底和包含维氏硬度至少为50的表面层的含稀土氧化物涂层的涂层构件; 或包含具有至少4×10 -6（1 / K）的线性膨胀系数的基材和其上的含稀土氧化物涂层的基材的涂布部件是耐热的并且可用作用于粉末冶金的烧结的夹具 金属，金属陶瓷和陶瓷材料。