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1.发明申请PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE EACH USING THE SAME 失效光敏组合物，图案形成材料和感光膜，图案形成方法，图案膜，低折射指数膜，光学装置和使用其的固态成像装置公开(公告)号：US20120003436A1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：US13172937
申请日：2011-06-30
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/0007 , G03F7/0047 , G03F7/033 , H01L2924/3025 , Y10T428/24802 , H01L2924/00
摘要： A photosensitive composition contains (A) a hollow or porous particle, (B) a compound capable of generating an active species upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a compound capable of changing in the solubility for an alkali developer by the action of the active species.
摘要翻译： 光敏组合物含有（A）中空或多孔颗粒，（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生活性物质的化合物，和（C）能够通过以下方式改变碱显影剂的溶解度的化合物： 活性物种的作用。
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2.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐蚀膜和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US20110293900A1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：US13117293
申请日：2011-05-27
申请人： Hisamitsu TOMEBA , Akinori SHIBUYA
发明人： Hisamitsu TOMEBA , Akinori SHIBUYA
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , Y10T428/24802
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (A) a fluorine-containing compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein the acid has a polarity converting group, and the fluorine content of the fluorine-containing compound (A) is 20% or more based on the molecular weight of the fluorine-containing compound (A).
摘要翻译： 一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）能够在用光化学射线或辐射照射时产生酸的含氟化合物，其中酸具有极性转换基团，氟的氟含量 （A）的含量相对于含氟化合物（A）的分子量为20％以上。
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