公开(公告)号：US07579590B2

公开(公告)日：2009-08-25

申请号：US11888576

申请日：2007-08-01

申请人： Zhi-Xiong (Jack) Jiang ,  David D. Sieloff

发明人： Zhi-Xiong (Jack) Jiang ,  David D. Sieloff

IPC分类号： G01N23/225 ,  H01L21/66

CPC分类号： G01B15/02

摘要： A method for measuring the thickness of a layer is provided, comprising (a) providing a structure (101) comprising a first layer disposed on a second layer; (b) impinging (103) the structure with a first ion beam comprising a first isotope, thereby sputtering off a portion of the first layer which contains a second isotope and exposing a portion of the second layer; and (c) determining (105) the thickness of the first layer by measuring the amount of the second isotope which is sputtered off.

摘要翻译： 提供了一种用于测量层的厚度的方法，包括（a）提供包括设置在第二层上的第一层的结构（101） （b）用包括第一同位素的第一离子束撞击（103）结构，从而溅射包含第二同位素的第一层的一部分并暴露第二层的一部分; 和（c）通过测量溅射出的第二同位素的量来确定（105）第一层的厚度。