公开(公告)号：US09079338B2

公开(公告)日：2015-07-14

申请号：US13467552

申请日：2012-05-09

申请人： Zijian Zheng ,  Youde Shen ,  Xuechang Zhou ,  Xie Zhuang

发明人： Zijian Zheng ,  Youde Shen ,  Xuechang Zhou ,  Xie Zhuang

IPC分类号： B29C39/14 ,  G03F7/00 ,  B29C39/20 ,  B29L31/00

CPC分类号： B29C39/148 ,  B29C39/203 ,  B29L2031/756 ,  B29L2031/7562 ,  G03F7/0002

摘要： A method of preparing a tip for lithography, includes forming a mold having at least one recess; disposing a first polymer in the recess to form an apex of the tip,; curing the first polymer in the recess; and disposing a second polymer in the recess to form a base of the tip. The Young's Modulus of the second polymer is lower than the Young's Modulus of the first polymer. The tip structure for lithography includes a substrate, and a layered structure including a tip having an apex of a first polymer and a base of a second polymer. The first polymer is less resiliently deformable than the second polymer.

摘要翻译： 一种制备光刻用尖端的方法，包括：形成具有至少一个凹部的模具; 在所述凹部中设置第一聚合物以形成所述尖端的顶点; 固化凹槽中的第一聚合物; 并在所述凹部中设置第二聚合物以形成所述尖端的基部。 第二聚合物的杨氏模量低于第一聚合物的杨氏模量。 用于光刻的尖端结构包括基底和包括具有第一聚合物的顶点和第二聚合物的基底的末端的层状结构。 第一聚合物比第二聚合物弹性变形少。