公开(公告)号：US5909744A

公开(公告)日：1999-06-08

申请号：US63627

申请日：1998-04-20

申请人： Javad J. Sahbari

发明人： Javad J. Sahbari

IPC分类号： C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42 ,  B08B7/00 ,  B08B3/04

CPC分类号： C11D7/261 ,  C11D7/5022 ,  G03F7/42 ,  G03F7/422 ,  C11D7/263 ,  C11D7/266

摘要： A mixture of a dibasic ester (DBE), an alcohol, and water to remove photoresist from a silicon wafer substrate. Photoresist is effectively removed at ambient temperature with this non-phenolic, non-halogenated stripper solution. Dissolved photoresist is easily separated from the water mixture for disposal.

摘要翻译： 二元酯（DBE），醇和水的混合物以从硅晶片衬底去除光致抗蚀剂。 用非酚类非卤化剥离剂溶液在环境温度下有效去除光致抗蚀剂。 溶解的光致抗蚀剂容易从水混合物中分离出来处理。

公开(公告)号：US6166254A

公开(公告)日：2000-12-26

申请号：US199400

申请日：1998-11-24

申请人： Javad J. Sahbari ,  Jin Wang Russell

发明人： Javad J. Sahbari ,  Jin Wang Russell

IPC分类号： C07C259/14 ,  C07C249/00

CPC分类号： C07C259/14

摘要： Amidoximes are prepared from aqueous hydroxylamine and nitrites to yield amidoximes. Reaction of acetonitrile with aqueous hydroxylamine at ambient temperature yields acetamidoxime crystals.

摘要翻译： 酰胺肟由羟胺和亚硝酸盐水溶液制备得到酰胺肟。 乙腈与羟胺水溶液在环境温度下的反应产生乙酰胺肟晶体。