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公开(公告)号:WO2018116048A1
公开(公告)日:2018-06-28
申请号:PCT/IB2017/057764
申请日:2017-12-09
Applicant: UNIVERSITE DE TECHNOLOGIE DE TROYES
Inventor: LERONDEL, Gilles , JEONG, Hyun , GOKARNA, Anisha
Abstract: L'invention concerne un procédé d'intégration des matériaux bidimensionnels sur un substrat nanostructuré caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: fabriquer des matériaux bidimensionnels par une méthode de dépôt en phase vapeur ou par une méthode d'exfoliation; transférer lesdits matériaux bidimensionnels, obtenus à l'étape précédente, sur un substrat nanostructuré synthétisé, ledit substrat nanostructuré est choisi de tel sorte qu'une surface de contact entre lesdits matériaux bidimensionnels et ledit substrat nanostructuré soit minimisée. L'invention concerne en outre des films minces entièrement suspendus obtenus par le procédé ci-dessus ainsi que l'utilisation des films minces suspendus dans différents domaines comme l'électronique, optoélectronique, photovoltaïque, catalyse, des surfaces ultrasensibles et les circuits intégrés, etc.