公开(公告)号：WO2006125538A1

公开(公告)日：2006-11-30

申请号：PCT/EP2006/004520

申请日：2006-05-13

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  DODOC, Aurelian ,  EHRMANN, Albrecht ,  BLEIDISTEL, Sascha

Inventor： DODOC, Aurelian ,  EHRMANN, Albrecht ,  BLEIDISTEL, Sascha

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G02B3/12 ,  G03F7/70341

Abstract: An optical system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) contains a module (50; 150), which can be fitted in the optical system and removed from it as a unit. The module contains a cavity (42; 142) which can be completely filled with a liquid (34; 134) and hermetically sealed, and a concavely curved optical surface (S) which bounds the cavity at the top during operation of the projection exposure apparatus (10) . This makes it possible to fill the module outside the optical system, The module can be tilted there so that no air bubble, which prevents complete filling, can form below the concavely curved optical surface.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置（10）的光学系统包含可以安装在光学系统中并作为一个单元从其中移除的模块（50; 150）。 该模块包括可完全充满液体（34; 134）并气密密封的空腔（42; 142）和在投影曝光设备的操作期间界定顶部空腔的凹曲面光学表面（S） （10）。 这使得可以将模块填充到光学系统外部。该模块可以在那里倾斜，使得不会在凹曲面光学表面下方形成防止完全填充的气泡。

公开(公告)号：WO2006111337A1

公开(公告)日：2006-10-26

申请号：PCT/EP2006/003496

申请日：2006-04-15

Applicant: EISENMANN MASCHINENBAU GMBH & CO. KG ,  LINK, Kersten ,  SWOBODA, Werner

Inventor： LINK, Kersten ,  SWOBODA, Werner

IPC: A61L2/00 ,  B01J19/08

CPC classification number: A61L2/03 ,  A61L2/02 ,  C02F1/34 ,  C02F1/4608 ,  C02F1/722 ,  C02F2301/043 ,  C02F2301/046 ,  C02F2303/04

Abstract: Eine Oberflächenbehandlungsanlage, insbesondere zum Lakkieren, Beschichten, Trocknen und damit verbundenen Vorbereiten von metallischen oder nichtmetallischen Gegenständen (42), enthält einen Kreislauf (44; 144), in dem eine Flüssigkeit (40; 140) umgewälzt wird. Erfindungsgemäß ist zum Zwecke der Entkeimung der Flüssigkeit (40; 140) eine Einrichtung (54; 154; 254) zum mechanischphysikalischen Öffnen von Zellmembranen in den Kreislauf integriert. Die Keime können sich dadurch nicht durch Erzeugung resistenter Stämme der Sterilisation entziehen.

Abstract translation: 的表面处理装置，在金属或含有电路非金属物体（42）的特别是用于Lakkieren，涂布，干燥和相关联的制剂（44; 144），其中液体（40; 140）中循环。 在集成电路细胞膜的机械物理开口。根据本发明用于消毒的液体的目的（40; 140）的装置（254 54; 154）。 种子不能被消毒，结果耐药株的产生逸出。

公开(公告)号：WO2006074812A2

公开(公告)日：2006-07-20

申请号：PCT/EP2005/014122

申请日：2005-12-30

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SINGER, Wolfgang ,  BADER, Dieter ,  WANGLER, Johannes ,  DEGÜNTHER, Markus

Inventor： SINGER, Wolfgang ,  BADER, Dieter ,  WANGLER, Johannes ,  DEGÜNTHER, Markus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083

Abstract: An illumination system (12) of a microlithographic expo­sure system comprises a plurality of light emitting ele­ments (24) that have light exit facets that are-posi­tioned in or in close proximity to à field plane (OP) or a pupil plane and are configured to be individually acti­vated. Light collecting elements, for example microlenses of a fly-eye lens or arrays of cylinder lenses, may be used to collect the light bundles emitted by the light' emitting elements (24). Homogenizing means, for example a rod integrator or an optical raster element (40), may be provided for improving the intensity uniformity in a re­ticle plane (RP).

Abstract translation: 微光刻曝光系统的照明系统（12）包括多个发光元件（24），所述多个发光元件（24）具有光出射面，所述光出射面位于或平行于à场平面（OP）或瞳平面 并被配置为单独激活。 集光元件，例如蝇眼透镜的微透镜或圆柱透镜阵列可以用于收集由光发射元件（24）发射的光束。 可以提供均匀化装置，例如棒状积分器或光学光栅元件（40），以改善光罩平面（RP）中的强度均匀性。

公开(公告)号：WO2006063787A1

公开(公告)日：2006-06-22

申请号：PCT/EP2005/013355

申请日：2005-12-13

Applicant: EISENMANN MASCHINENBAU GMBH & CO. KG ,  YILMAZ, Mehmet

Inventor： YILMAZ, Mehmet

IPC: E05C17/04 ,  B05C21/00 ,  B05B13/02

CPC classification number: E05C21/005 ,  B05B13/0292 ,  E05C17/042 ,  E05C17/047

Abstract: Ein Aufsteller zum Offenhalten einer Heck- oder Frontklappe (14; 214) einer Kraftfahrzeugkarosserie in einer definierten Offenstellung weist ein Befestigungselement (24; 124; 224; 324) zum lösbaren Befestigen des Aufstellers an einem ersten Karosserieteil auf, bei dem es sich z.B. um die Heck- oder Frontklappe (14; 214) handeln kann. Der Aufsteller ist unter Federwirkung mit einem zweiten Karosserieteil (18, 34; 216) verrastbar.

Abstract translation: （14; 214），用于保持打开机动车车身的前部或后部襟翼在限定的打开位置时，一个紧固元件（24; 124; 224; 324）一个定位器，用于对可释放地固定在第一主体部分中的定位器，其例如是 后部或前翼片（14; 214）可以充当。 该定位器与一个第二主体部分（18，34; 216）在弹簧作用下可被锁存。

公开(公告)号：WO2006056265A1

公开(公告)日：2006-06-01

申请号：PCT/EP2005/010708

申请日：2005-10-05

Applicant: EISENMANN MASCHINENBAU GMBH & CO. KG ,  HEIM, Jürgen ,  HEIZMANN, Christoph

Inventor： HEIM, Jürgen ,  HEIZMANN, Christoph

IPC: B65G49/04

CPC classification number: B66F7/02 ,  B65G49/0481 ,  B66D3/04 ,  F16C13/006

Abstract: Eine Oberflächenbehandlungsanlage, insbesondere zur Behandlung von Kunststoffteilen oder Fahrzeugkarosserien, umfaßt eine Umsetzstation (24, 25) zum vertikalen oder horizontalen Umsetzen eines Gegenstands (12). Die Umsetzstation weist ihrerseits eine ortsfeste Tragstruktur (34), einen relativ zu der Tragstruktur (34) verfahrbaren Schlitten (40) zur Aufnahme des Gegenstands (12) sowie mindestens eine Führungsrolle (64, 66, 68, 70; 70‘; 70‘‘) auf, über die sich der Schlitten an der Tragstruktur (34) abstützt. Die mindestens eine Führungsrolle hat eine Rollfläche (118; 118‘; 118‘‘) hat, welche bei einem Abrollen die Tragstruktur berührt. Erfindungsgemäss besteht zumindest die Rollfläche der mindestens einen Führungsrolle aus einem antistatischen Material, dessen elektrischer spezifischer Durchgangswiderstand zwischen 10 Ωm und 10 9 Ωm liegt. Auf diese Weise wird der Ablagerung von Schmutzpartikeln auf den Führungsrollen und den Gegenflächen (12) entgegengewirkt, wodurch sich der Aufwand bei der Reinigung der Umsetzstation oder bei der Nachbearbeitung der Gegenstände verringert.

Abstract translation: 一种表面处理系统，特别是用于塑料部件或车体，包括用于垂直或水平的物体（12）反应的传送站（24，25）的治疗。 反过来传送站包括固定的支撑结构（34），相对于所述支撑结构（34）可移动的滑架（40），用于接收所述对象（12）和至少一个导辊（64，66，68，70; 70“; 70”' ），通过该对支撑结构（34）滑架被支撑。 所述至少一个导辊具有一滚动表面（118; 118“; 118”“）具有，在一个轧制与支撑结构相接触。 根据本发明，至少有抗静电材料的至少一个导向滚子的滚动面，10和10嗡 ^{9 之间的电体积电阻率嗡。 以这种方式，上导辊和对置表面的污物颗粒的沉积（12）被抵消，从而降低了在清洁转印站或在对象的后处理的工作量。}

公开(公告)号：WO2015074746A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：PCT/EP2014/003049

申请日：2014-11-13

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： DEGÜNTHER, Markus ,  DAVYDENKO, Vladimir ,  KORB, Thomas ,  SCHLESENER, Frank ,  HILT, Stefanie ,  HÖGELE, Wolfgang

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a pupil forming unit (36) directing light on a spatial light modulator (52) that transmits or reflects impinging light in a spatially resolved manner. An objective (58) images a light exit surface (57) of the spatial light modulator (52) on light entrance facets (75) of an optical integrator (60) so that an image (110') of an object area (110) on the light exit surface (57) completely coincides with one of the light entrance facets. The pupil forming unit (36) and the spatial light modulator (52) are controlled so that the object area (110) is completely illuminated by the pupil forming unit (36) and projection light associated with a point in the object area (110) is at least partially and variably prevented from impinging on the one of the light entrance facets (75).

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括将光引导到以空间分辨的方式透射或反射入射光的空间光调制器（52）的光瞳形成单元（36）。 物镜（58）将光学积分器（60）的光入射面（75）上的空间光调制器（52）的光出射面（57）成像，使得物体区域（110）的图像（110'） 在光出射面（57）上与光入射面之一完全重合。 控制光瞳形成单元（36）和空间光调制器（52），使得物体区域（110）完全被瞳孔形成单元（36）照射，并且与物体区域（110）中的点相关联的投影光 至少部分地且可变地防止撞击在一个光入射面（75）上。

公开(公告)号：WO2014056513A1

公开(公告)日：2014-04-17

申请号：PCT/EP2012/004212

申请日：2012-10-08

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： PATRA, Michael

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0833 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70291

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a spatial light modulator (38) which is arranged between a light source (30) and a pupil plane (56). The spatial light modulator (38) includes an array (40) of micromirrors or other light deflecting elements (42) each being capable of individually deflecting impinging projection into various directions. An irradiance distribution (310; 310M) on the mirror array (20) or its envelope (310E) has, along a direction X an increasing slope (72) and a decreasing slope (74). The control unit (43) controls the mirrors in such a way that a first mirror (42a), which is located at the increasing slope (72), and a second mirror (42b), which is located at the decreasing slope (74), deflect impinging projection light so that it at least partly overlaps in the pupil plane (56). This ensures that the angular irradiance distribution at mask level is substantially independent from beam pointing fluctuations.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括布置在光源（30）和光瞳平面（56）之间的空间光调制器（38）。 空间光调制器（38）包括微镜阵列（40）或其他光偏转元件（42），每个能够单独地将撞击投影偏转到各个方向。 反射镜阵列（20）或其封套（310E）上的辐照度分布（310; 310M）沿着X的方向具有增加的斜率（72）和减小的斜率（74）。 控制单元（43）以位于增减斜面（72）的第一反射镜（42a）和位于减小斜坡（74）处的第二反射镜（42b）的方式控制反射镜， 偏转入射投射光，使得其在瞳孔平面（56）中至少部分重叠。 这确保掩模级处的角度辐照度分布基本上与束指向波动无关。

公开(公告)号：WO2013131614A1

公开(公告)日：2013-09-12

申请号：PCT/EP2013/000471

申请日：2013-02-19

Applicant: COPF, Franz

Inventor： COPF, Franz

IPC: A61B6/00 ,  A61B6/04 ,  G06F19/00

CPC classification number: A61B6/505 ,  A61B6/0492 ,  A61B6/5211

Abstract: Es wird ein Verfahren zur computergestützten Bestimmung der Lage eines auf einem Röntgenbild abgebildeten Abschnitts einer Wirbelsäule (WS) relativ zu einem Röntgengerät (10) angegeben, das bei der Aufnahme des Röntgenbildes verwendet wurde. Datensätze in einer Datenbank umfassen jeweils Bildinformationen zu einem zweidimensionalen Referenz-Röntgenbild (RB, RB') eines Wirbelsäulenteils (60; 70), wobei sich die Referenz-Röntgenbilder (RB, RB') der Datensätze durch die Lage des Wirbelsäulenteils (60; 70) relativ zu einem ersten Röntgengerät (10') voneinander unterscheiden, das bei der Aufnahme der Referenz-Röntgenbilder (RB, RB') verwendet wurde. Jeder Datensatz enthält außerdem Lageinformationen zu der Lage des Wirbelsäulenteils (60; 70) relativ zu dem ersten Röntgengerät (101) während der Aufnahme des Referenz-Röntgenbildes (RB, RB'). Durch Vergleich eines Ziel-Röntgenbildes (ZB) oder Teilen (BA') davon mit den in der Datenbank gespeicherten Bildinformationen zu den Referenz- Röntgenbildern (RB; RB') wird ermittelt, in welcher Lage sich der Wirbelsäulenabschnitt während der Aufnahme des Ziel-Röntgenbildes relativ zu dem dabei verwendeten Röntgengerät (10) befand.

Abstract translation: 提供了一种用于一个成像在脊柱部分（WS）相对于X射线装置（10），其在X射线图像的记录过程中使用的X射线照片的位置的计算机辅助判定的方法。 数据库中的记录的每一个包括关于二维参考X射线图像（RB，RB“）的图像信息的脊柱部分（60; 70），其中，所述参考X射线图像（RB，RB”由脊柱部分（60的位置的数据集的）; 70 ）相对（于第一X射线设备10）用于“）彼此，其中（参考X射线图像RB的记录期间，RB不同”。 每个记录还包含有关脊柱部分的位置的位置信息（60; 70）相对于所述第一X射线装置（101）的基准的X射线图像（RB，RB“）的记录期间。 通过比较目标的X射线图像（ZB）或份（BA“）其与存储在数据库中的图像信息提供给参考X射线图像（RB; RB”）被确定，其中，所述目标的X射线图像的记录期间的脊部位置 相对于在这种情况下（10）中使用的X射线机位于。

公开(公告)号：WO2013075767A1

公开(公告)日：2013-05-30

申请号：PCT/EP2012/004017

申请日：2012-09-26

Applicant: DÜRR DENTAL AG

Inventor： PHILIPPS, Bernd ,  WEBER, Michael ,  HACK, Alexander

IPC: G21K4/00 ,  G01T1/20 ,  G02B26/08 ,  G03B42/08

CPC classification number: G01T1/2014 ,  G01T1/2016 ,  G02B26/101 ,  G02B27/026 ,  G03B42/08

Abstract: Eine Vorrichtung (10) zum Auslesen einer belichteten Speicherfolie (12) umfasst eine Lichtquelle (18), mit der Ausleselicht (20) erzeugbar ist, das zum Abtasten der Speicherfolie (12) mit einer Ablenkeinheit (26) punktweise auf die Speicherfolie (12) richtbar ist. Die Vorrichtung (10) umfasst ferner eine Detektoreinheit (36) für Fluoreszenzlicht (22), das von der Speicherfolie (12) beim Abtasten mit dem Ausleselicht (20) abgegeben wird. Um die Abtasteffizienz zu erhöhen, wird in der Ablenkeinheit (26) ein steuerbarer Mikrospiegel (24) zur Ausrichtung des Ausleselichts (20) verwendet.

Abstract translation: 用于读出的暴露存储箔（12）的设备（10）包括光源（18），与所述读出光（20）可以生成其用于与偏转单元（26）逐点到存储箔（12）扫描所述存储箔（12） 可定向。 的装置（10）还包括用于荧光灯（22）的存储膜（12）在与所述读出光（20）扫描被排出的检测器单元（36）。 为了提高扫描效率，在偏转单元（26），可控制的微反射镜（24），用于读出光的取向（20）被使用。

公开(公告)号：WO2012089224A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：PCT/EP2010/007953

申请日：2010-12-28

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  PATRA, Michael ,  BIELING, Stig ,  DEGÜNTHER, Markus ,  SCHLESENER, Frank ,  SCHWAB, Markus

Inventor： PATRA, Michael ,  BIELING, Stig ,  DEGÜNTHER, Markus ,  SCHLESENER, Frank ,  SCHWAB, Markus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70158 ,  G03F7/70058

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a light source (30), which is configured to produce a projection light beam (34), and a first and a second diffractive optical element (42, 44; 242, 244) arranged between the light source (30) and a pupil plane (84). The diffractive effect produced by each diffractive optical element depends on the position of a light field (110) that is irradiated by the projection light beam (34) on the diffractive optical elements (42, 44; 242, 244). A displacement mechanism (54, 64) changes the mutual spatial arrangement of the diffractive optical elements. In at least one of the mutual spatial arrangements, which can be obtained with the help of the displacement mechanism (54, 64), the light field (110) extends both over the first and the second diffractive optical element (42, 44; 242, 244). This makes it possible to produce in a simple manner continuously variable illumination settings.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括被配置为产生投影光束（34）的光源（30）和第一和第二衍射光学元件（42,44; 242,244） ）布置在光源（30）和光瞳平面（84）之间。 由每个衍射光学元件产生的衍射效应取决于由投影光束（34）照射在衍射光学元件（42,44; 242,244）上的光场（110）的位置。 位移机构（54,64）改变衍射光学元件的相互空间布置。 在借助位移机构（54,64）可获得的相互空间布置中的至少一个中，光场（110）在第一和第二衍射光学元件（42,44; 242）之上延伸 ，244）。 这使得可以以简单的方式生产连续可变的照明设置。