公开(公告)号：WO2016028057A1

公开(公告)日：2016-02-25

申请号：PCT/KR2015/008608

申请日：2015-08-18

申请人： 주식회사 엘지화학

发明人： 박태문 ,  정대철 ,  이동훈 ,  이우람 ,  이현준 ,  김주영

IPC分类号： G03F7/42

CPC分类号： G03F7/42 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/373 ,  C11D3/43 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/11 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0276

摘要： 본 발명은， 중량평균 분자량 95 g/mol이상의 사슬형 아민 화합물; 중 량평균 분자량 90 g/mol 이하의 사슬형 아민 화합물; 고리형 아민 화합물; 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기가 질소에 1내지 2치환된 아 마이드계 화합물; 및 극성 유기 용매를 포함하고， 상기 중량평균 분자량 95 g/mol이상의 사슬형 아민 화합물 및 중량평균 분자량 90 g/mol 이하의 사슬 형 아민 화합물 간의 중량비가 1 : 1 내지 1 : 10인, 포토레지스트 제거용 스트 리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다.

摘要翻译： 本发明涉及一种除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用其的剥离光致抗蚀剂的方法，该汽提组合物包含：重均分子量为95g / mol以上的链胺化合物; 重均分子量为90g / mol以下的链胺化合物; 环胺化合物; 其中具有1至5个碳原子的直链或支链烷基被氮单价或二取代的酰胺类化合物; 和极性有机溶剂，其中重均分子量为95g / mol以上的链胺化合物与重均分子量为90g / mol以下的链胺化合物的重量比为1:1 至1:10。

公开(公告)号：WO2010090480A3

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：PCT/KR2010/000730

申请日：2010-02-05

申请人： 주식회사 엘지화학 ,  이우람 ,  김상호 ,  박종욱

发明人： 이우람 ,  김상호 ,  박종욱

IPC分类号： C04B35/52 ,  C04B35/532 ,  C04B35/528 ,  C04B35/571

摘要： 본 발명은 그래파이트와 같은 탄소계 입자와 구리가 서로 혼합된 탄소계 입자/구리 복합재료의 제조방법에 관한 것으로서, (스텝. 1) 주사슬이 탄소로 이루어진 고분자 유기 화합물과 구리 전구체를 용매에 용해시킨 용액을, 탄소계 입자들을 제1 분산매에 분산시킨 분산액과 혼합하여 혼합물을 생성하는 단계; (스텝. 2) 상기 혼합물에 제1 환원제를 투입하여, 탄소계 입자의 표면에 산화제일구리 입자들이 부착된 복합입자들을 형성하는 단계: 및 (스텝. 3) 상기 복합입자들을 비산화성 분위기에서 소성하는 단계를 포함한다. 본 발명의 제조방법에 따르면, 탄소계 입자와 구리가 잘 혼합된 복합재료를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：WO2022039491A1

公开(公告)日：2022-02-24

申请号：PCT/KR2021/010946

申请日：2021-08-18

申请人： 주식회사 엘지화학

发明人： 이우람 ,  김나리 ,  강동령 ,  최상순

IPC分类号： C01G53/00 ,  C01G53/04 ,  H01M10/052 ,  H01M4/525 ,  H01M4/505

摘要： 본 발명은, 니켈 함유량이 70atm% 이상인 전이금속 전구체와 리튬 원료 물질을 혼합하고 1차 소성하여 가소성품을 형성하는 단계; 및 상기 가소성품을 2차 소성하여 리튬 복합 전이금속 산화물을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 1차 소성이 가소성품의 스피넬상(spinel phase) 비율이 7 ~ 16%가 되도록 수행되는 것인 양극 활물질의 제조 방법에 관한 것이다.

公开(公告)号：WO2020197014A1

公开(公告)日：2020-10-01

申请号：PCT/KR2019/013124

申请日：2019-10-07

申请人： 주식회사 엘지화학

发明人： 박태문 ,  이동훈 ,  송현우 ,  이우람

IPC分类号： G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/43

摘要： 본 발명은 포토레지스트에 대한 우수한 박리력을 가지면서 박리과정에서 하부 금속막에 대한 부식을 억제하고, 산화물을 효과적으로 제거할 수 있는 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다.

公开(公告)号：WO2016043451A1

公开(公告)日：2016-03-24

申请号：PCT/KR2015/009142

申请日：2015-08-31

申请人： 주식회사 엘지화학

发明人： 박태문 ,  정대철 ,  이동훈 ,  이우람 ,  이현준 ,  김주영

IPC分类号： G03F7/42

CPC分类号： G03F7/42

摘要： 본 발명은, 1종 이상의 아민 화합물; 비양자성 극성 유기 용매 및 물 로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 용매; 양자성 극성 유기 용매; 및 20°C에서 25 mPa - s 내지 250 mPa - s의 동역학점도 (dynamic viscosity)를 가지며， 폴리에테르계 작용기가 도입된 폴리디메틸실록산 반복 단위를 20몰% 내지 70몰% 포함한 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산;을 포함하는， 포토레 지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和通过使用该光致抗蚀剂剥离光致抗蚀剂的方法，所述组合物包含：一种或多种胺化合物; 选自非质子极性有机溶剂和水的一种或多种溶剂; 质子极性有机溶剂; 和在20℃下的动态粘度为25〜250mPa·s的聚醚改性的聚二甲基硅氧烷，并且包含20-70mol％的引入聚醚的官能团的聚二甲基硅氧烷重复单元。

公开(公告)号：WO2014181992A1

公开(公告)日：2014-11-13

申请号：PCT/KR2014/003732

申请日：2014-04-28

申请人： 주식회사 엘지화학

发明人： 이우람 ,  정대철 ,  이동훈 ,  박태문

IPC分类号： G03F7/42 ,  H01L21/306

CPC分类号： G03F7/425

摘要： 본 발명은 포토레지스트에 대한 우수한 제거 및 박리 성능을 나타내면서도, 구리 등을 함유한 하부막 상의 얼룩 또는 이물의 발생 또는 잔류를 효과적으로 억제할 수 있는 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다. 상기 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물은 1종 이상의 아민 화합물; 극성 유기 용매; 알킬렌글리콜계 용매; 및 부식 방지제를 포함하는 것이다.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其的剥离光致抗蚀剂的方法，其中用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在除去和剥离光致抗蚀剂中表现出优异的性能，并且可以有效地抑制含铜的下部膜上的污渍 喜欢从被生成或保留。 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物包含：至少一种胺化合物; 极性有机溶剂; 亚烷基二醇类溶剂; 和腐蚀抑制剂。