公开(公告)号：WO2016107406A1

公开(公告)日：2016-07-07

申请号：PCT/CN2015/097542

申请日：2015-12-16

Applicant: 陈宝明 ,  高嫄 ,  荆建芬 ,  姚颖 ,  潘依君 ,  邱腾飞 ,  王春梅

Inventor： 陈宝明 ,  高嫄 ,  荆建芬 ,  姚颖 ,  潘依君 ,  邱腾飞 ,  王春梅

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09G1/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明涉及一种化学机械抛光液及其应用，该抛光液含有研磨颗粒、氨基硅烷试剂和水。本发明适合于硅通孔(TSV)工艺中阻挡层的抛光，还可用于集成电路铜互连制程中的阻挡层抛光、二氧化硅层间介质抛光和浅槽隔离层抛光，在较温和的条件下具有高的阻挡层去除速率，较高的平坦化效率。抛光液可制备高浓缩的产品，不但可以有效降低成本，还便于储存和运输。