公开(公告)号：WO2019049610A1

公开(公告)日：2019-03-14

申请号：PCT/JP2018/030185

申请日：2018-08-13

Applicant: 株式会社フジミインコーポレーテッド

Inventor： 土屋　公亮 ,  浅田　真希

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/308

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  H01L21/308

Abstract: 低ＬＰＤおよび低表面粗さを同時に実現し得る研磨用組成物を提供する。本発明により提供される研磨用組成物は、砥粒、水溶性高分子、界面活性剤、および塩基性化合物を含む。上記水溶性高分子は、以下の式：α＝θ１－θ０；により表される洗浄性パラメータαが、１＜α＜３５を満たす。ここで、上記式中のθ０は、単結晶シリコンウェーハの表面に上記水溶性高分子の水溶液を塗布した後に水洗して得られるＳＣ－１処理前ウェーハの水接触角であり、上記式中のθ１は、上記ＳＣ－１処理前ウェーハに２９％アンモニア水と３１％過酸化水素水と水とを１：２：３０の体積比で含む室温のＳＣ－１洗浄液Ｌ Ａ で１０秒間処理する洗浄処理Ａを施して得られるＳＣ－１処理後ウェーハの水接触角である。

公开(公告)号：WO2018216218A1

公开(公告)日：2018-11-29

申请号：PCT/JP2017/019791

申请日：2017-05-26

Applicant: 日揮触媒化成株式会社

Inventor： 小松　通郎 ,  西田　広泰 ,  中山　和洋 ,  岩崎　幸博

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C01F17/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/00 ,  C01F17/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 研磨剤として用いる工程において濃縮安定性に優れるナノバブル含有無機酸化物微粒子分散液の製造方法の提供を課題とする。平均粒子径が１～５００ｎｍの微粒子を含む無機酸化物微粒子分散液と、平均気泡径が５０～５００ｎｍのナノバブルを含むナノバブル水溶液とを含む溶液を、５～８０℃に保持しつつ、混合する工程を備える、ナノバブル含有無機酸化物微粒子分散液の製造方法によって前記課題を解決する。

公开(公告)号：WO2018179062A1

公开(公告)日：2018-10-04

申请号：PCT/JP2017/012424

申请日：2017-03-27

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野　友洋

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 砥粒と、３価希土類元素を含む水溶性化合物と、液状媒体と、を含有し、前記水溶性化合物の含有量が０質量％を超え０．０５質量％未満である、研磨液。

公开(公告)号：WO2018062401A1

公开(公告)日：2018-04-05

申请号：PCT/JP2017/035258

申请日：2017-09-28

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 土居陽彦 ,  大山翼

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 研磨速度を確保しつつ、研磨選択性の向上及び研磨ムラの抑制が可能な研磨液組成物の提供。　本開示は、酸化セリウム粒子Ａと、オリゴ糖Ｂと、水とを含有し、前記オリゴ糖Ｂは、３個以上５個以下のグルコースが結合した糖を含み、かつ、８個以上のグルコースが結合した糖の含有量が２７質量％以下のオリゴ糖である、研磨液組成物に関する。

Abstract translation: 提供一种抛光液组合物，其能够在确保抛光速率的同时提高抛光选择性并抑制抛光不均匀。 本公开包含氧化铈粒子A，和低聚糖B，和水，其中该低聚糖B包含3个或更多5或更少的葡萄糖结合的糖，和8个或更多的葡萄糖 以及结合糖含量不超过27质量％的寡糖。

公开(公告)号：WO2018020975A1

公开(公告)日：2018-02-01

申请号：PCT/JP2017/024769

申请日：2017-07-06

Applicant: 新東工業株式会社

Inventor： 末菅　啓朗 ,  平野　雅雄

IPC: B24B31/14 ,  B24B57/04 ,  C09K3/14

CPC classification number: B24B31/14 ,  B24B57/04 ,  C09K3/14

Abstract: 摩耗による寸法減少で研磨に適さないサイズとなったバレル研磨用メディアを利用したバレル研磨用の再生メディアおよびこのようなバレル研磨用の再生メディアの製造方法を提供すること。　バレル研磨用の再生メディアであって、砥粒と該砥粒が分散された樹脂とを含む基体と、該基体中に配置されたバレル研磨用メディアの小片とを備え、前記バレル研磨用メディアの小片が、砥粒と該砥粒が分散された樹脂とを含む基体を備えた、使用済のバレル研磨用メディアであり、前記バレル研磨用の再生メディアを構成する基体が、前記使用済のバレル研磨用メディアを構成する基体と略同一の研磨力を有しているバレル研磨用の再生メディアおよびその製造方法が提供される。

Abstract translation: 使用具有由于磨损而减小的不适合抛光的尺寸的滚筒抛光介质进行滚筒抛光的回收介质以及用于制造这种滚筒抛光用再生介质的方法 它。 1。一种滚筒研磨再生介质，其特征在于，具备：基体，其具有磨粒和分散有所述磨粒的树脂;以及配置在所述基板上的滚筒研磨用介质， 小桶是具备含有磨粒的基体和分散有磨粒的树脂的使用过的滚筒研磨用介质，构成滚筒研磨用再生介质的基体是使用过的桶 提供一种用于滚筒抛光的重放介质，其具有与构成抛光介质的基板基本相同的抛光能力及其制造方法。

公开(公告)号：WO2017206344A1

公开(公告)日：2017-12-07

申请号：PCT/CN2016/094931

申请日：2016-08-12

Applicant: 江苏金麦穗新能源科技股份有限公司

Inventor： 熊万军

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/14

Abstract: 一种稻麦秸秆柔性刹车片摩擦材料生产工艺，其包括如下步骤：将干燥的木质纤维颗粒放进纳米石墨溶液中侵泡1至3小时后晾干生成备用木质纤维料，将粉碎的稻麦秸秆和滑石颗粒进行造粒后烘干生成备用稻麦秸秆和滑石颗粒料,该备用稻麦秸秆和滑石颗粒料的粒度直径为0.5mm-1.5mm；按照2份质量份数的备用稻麦秸秆和滑石颗粒料、1份质量份数的备用木质纤维料均匀混合生成混合料；将所述混合料分别依次进行炭化、活化处理，并将活化处理后的混合料放入丁晴橡胶溶液中侵泡1至3小时后烘干后研磨成预定粒度的稻麦秸秆柔性摩擦材料混合颗粒料；按照纤维材料25份、酚醛改性树脂7份、稻麦秸秆柔性摩擦材料混合颗粒料40份、增摩材料20份、硫铁矿0.5份、炭黑0.5份、氧化铝1份、铜粉6份的质量份数比例在高速混料机中进行搅拌20至40分钟至所有材料融合后放出装桶生成所述稻麦秸秆柔性刹车片摩擦材料。该工艺生产出的刹车片使用噪音低。

公开(公告)号：WO2017206343A1

公开(公告)日：2017-12-07

申请号：PCT/CN2016/094930

申请日：2016-08-12

Applicant: 江苏金麦穗新能源科技股份有限公司

Inventor： 熊万军

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/14

Abstract: 一种稻麦秸秆泡沫炭粉铝刹车片摩擦材料生产工艺，其包括如下步骤：温度控制在950℃至1050℃且铝材料彻底融化时，在贫氧环境下，按照每100Kg的融化铝中添加5Kg氧化镁和30Kg稻麦秸秆炭和1Kg辅佐材料，均匀混合形成混合料；控制温度至600℃时，向所述混合料中加入发泡剂且在加入发泡剂10至20分钟时，将加入发泡剂的所述混合物加入预制模具中冷却并切削成生成稻麦秸秆泡沫炭粉铝材；按照质量份数复合纤维25份、酚醛改性树脂6份、稻麦秸秆泡沫炭粉铝40份、增摩材料20份、硫铁矿0.5份、炭黑0.5份、氧化铝1份、铁粉7份质量份数的比例在高速混料机中进行搅拌30分钟，所有材料完全融合后放出装桶生成稻麦秸秆泡沫炭粉铝刹车片摩擦材料。该工艺生产出的刹车片噪音低，使用性能好。

公开(公告)号：WO2017169743A1

公开(公告)日：2017-10-05

申请号：PCT/JP2017/010224

申请日：2017-03-14

Applicant: 株式会社フジミインコーポレーテッド

Inventor： 大西　正悟 ,  佐藤　剛樹

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 【課題】十分平坦化を達成できる金属を含む層を有する研磨対象物の研磨に用いられる研磨用組成物を提供する。 【解決手段】金属を含む層を有する研磨対象物の研磨に用いられる研磨用組成物であって、砥粒と、酸化剤と、分散媒と、酸性官能基および塩基性官能基を有する防食剤とを含む、研磨用組成物。

Abstract translation: 本发明的课题在于提供一种研磨用组合物，该研磨用组合物具有含有能够充分展平的金属的层的被研磨物。 本发明提供一种研磨用组合物，其用于研磨具有含金属层的被研磨物，并且含有磨粒，氧化剂，分散介质，具有酸性官能团和碱性官能团的防腐剂 包括门，该抛光组合物。

公开(公告)号：WO2017163910A1

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：PCT/JP2017/009545

申请日：2017-03-09

Applicant: 株式会社フジミインコーポレーテッド

Inventor： 石田　康登

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 【課題】研磨済研磨対象物表面に残留するディフェクトを十分に除去することができ、かつ複数材料を含む研磨対象物を研磨する際の各材料の研磨速度をほぼ等しくすることができる研磨用組成物を提供する。 【解決手段】ケイ素－ケイ素結合を有する材料と、ケイ素－窒素結合を有する材料と、ケイ素－酸素結合を有する材料と、を含む研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、有機酸表面固定シリカ粒子と、濡れ剤と、前記ケイ素－ケイ素結合を有する材料の研磨速度抑制剤と、を含み、ｐＨが７未満である、研磨用組成物。

Abstract translation:

甲残留在被抛光物体的抛光表面缺陷可以充分地除去，和抛光含有多个材料的抛光对象期间每种材料的大约抛光速率 可以使其彼此相等。 具有硅键合，硅的材料 - - 甲硅和具有氮键的材料，硅 - 具有氧键，用于抛光包括对象的抛光组合物的材料 碲，有机酸表面锚定的二氧化硅颗粒，和润湿剂，硅 - 包括具有硅键合的，pH值小于7，抛光组合物的抛光率抑制剂材料。

公开(公告)号：WO2017130749A1

公开(公告)日：2017-08-03

申请号：PCT/JP2017/001094

申请日：2017-01-13

Applicant: 株式会社フジミインコーポレーテッド

Inventor： 竹田　恒 ,  グランストロム　ジミー　エリック ,  佐伯　房世

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 砥粒と、添加剤と、水溶性ポリマーとを含む研磨用組成物であって、Ｄ ５０（前） に対するＤ ５０（後） の比率が２．０未満であり、ここで、Ｄ ５０（前） は、前記研磨用組成物を８０℃で５日間放置する前に測定された前記研磨用組成物の粒子のＤ ５０ の値であり、Ｄ ５０（後） は、前記研磨用組成物を８０℃で５日間放置した後に測定された前記研磨用組成物の粒子のＤ ５０ の値である、研磨用組成物である。

Abstract translation: 抛光组合物，其包含磨料颗粒，添加剂和水溶性聚合物，其中D50（之后） ）小于2.0，其中在将抛光组合物在80℃下放置5天之前测量D 50（before） 其中该抛光组合物的粒子的d的值<子> 50 ，d <子> 50（后），在将抛光组合物静置在80℃下5天 是抛光组合物的测量颗粒的D 50值。