公开(公告)号：WO2018138836A1

公开(公告)日：2018-08-02

申请号：PCT/JP2017/002761

申请日：2017-01-26

申请人： 株式会社 電硝エンジニアリング ,  ジャパンクリエイト 株式会社 ,  アイシーエム 株式会社 ,  株式会社 常盤製作所

发明人： 住母家　岩夫 ,  伊東　由夫 ,  中村　マウロ　マサル ,  日高　ロニルド　ぺレイラ ,  田中　光明

IPC分类号： G09F9/00

CPC分类号： G09F9/00

摘要： 【課題】　液晶ディスプレイまたは有機ＥＬディスプレイに用いる透光性基板を湾曲自在となる薄さになるまでその表面を化学研磨するとともに、透光性基板表面の研磨量を面ごとに調整可能としたディスプレイ用電子基板の製造方法、ディスプレイ用電子基板の研磨方法および研磨装置を提供する。 【解決手段】　映像の投影領域を構成する電子素子と、基材となる透光性基板と、を積層してなるディスプレイ用電子基板の製造方法が、電子素子を透光性基板に載置固定する固定載置工程と、電子素子を透光性基板で挟む位置に、前記透光性基板とは厚みの異なる他の透光性基板を積層固定する透光性基板積層工程と、積層体を溶融研磨を行うために化学研磨液を用いて化学研磨処理を行う化学研磨工程と、溶融研磨された積層体を洗浄する洗浄工程と、からなり、化学研磨工程は、厚みの異なる一対の透光性基板のうちの何れかが溶融消滅するまで化学研磨処理を行う構成である。

公开(公告)号：WO2018020531A1

公开(公告)日：2018-02-01

申请号：PCT/JP2016/003476

申请日：2016-07-27

申请人： 株式会社 電硝エンジニアリング ,  ジャパンクリエイト 株式会社 ,  アイシーエム 株式会社 ,  株式会社 常盤製作所

发明人： 住母家　岩夫 ,  伊東　由夫 ,  中村　マウロ　マサル ,  日高　ロニルド　ぺレイラ ,  田中　光明

IPC分类号： C03C15/00

CPC分类号： C03C15/00

摘要： 【課題】　ガラス基板が均一な薄膜となるように表面を化学研磨することを可能とするとともに、治具痕の発生を抑制すると同時に破損のリスクを抑制した、研磨効率の高いガラス基板の研磨方法および研磨装置を提供する事を目的とする。 【解決手段】　液晶ディスプレイまたは有機ＥＬディスプレイに用いるガラス基板の表面を均質に研磨するためのガラス基板の研磨方法が、ガラス基板を垂直に吊下して設置固定する設置工程と、化学研磨液を複数の噴射ノズルからガラス基板の両側面に継続的に噴射塗布する化学研磨工程と、溶融研磨されたガラス基板を洗浄する洗浄工程と、からなり、化学研磨工程は、液垂による化学研磨液の噴射塗布のムラの発生と残存を防止するため、ガラス基板上端側の噴射ノズルの縦間隔または横間隔をガラス基板下端より狭くなるように配置する構成である。

摘要翻译： 它一起使得有可能以化学抛光的表面以

的玻璃基板变得均匀的薄膜，并且抑制在同一时间损坏和危险抑制夹具标记的产生，磨料 本发明的目的是提供一种高效率的玻璃基板抛光方法和抛光装置。 一种液晶显示器，或抛光的玻璃基板用于均匀抛光用于有机EL显示器的玻璃基板的表面的方法，从垂直于玻璃基板固定安装已暂停的安装步骤中，将化学抛光溶液 和化学抛光的连续喷射，并从多个喷嘴向所述玻璃基板的两面步骤，清洁稠合磨料在玻璃基板的清洗工序包括，化学抛光过程中，根据化学抛光溶液滴落 为了防止发生，以及喷涂和应用配置以放置在玻璃基板上侧的喷射喷嘴的垂直间隔或水平间隔为比玻璃基板底部较窄的不均匀性的持久性。