公开(公告)号：WO2011081322A2

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：PCT/KR2010/008852

申请日：2010-12-10

Applicant: 제일모직 주식회사 ,  김미영 ,  이우진 ,  한권우 ,  이한송 ,  김상균 ,  김종섭

Inventor： 김미영 ,  이우진 ,  한권우 ,  이한송 ,  김상균 ,  김종섭

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0332 ,  C08G77/80 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282

Abstract: 화학식 1 내지 3로 표시되는 화합물의 유기실란계 축중합물; 및 용매를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물이 제공된다. 상기 레지스트 하층막용 조성물은 굴절율과 흡광도를 용이하게 조절하여, 반사방지 특성이 우수한 레지스트 하층막과 이를 이용한 반도체 집적회로 디바이스를 제공할 수 있다.

Abstract translation: （1） - （3）表示的化合物的有机硅烷基轴向聚合物; 抗蚀剂下层膜用溶剂。 抗蚀剂下层膜用组合物可以容易地调整折射率和吸光度，可以提供防反射特性优异的抗蚀剂下层膜和使用其的半导体集成电路装置。