公开(公告)号：WO2015037785A1

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：PCT/KR2013/011420

申请日：2013-12-10

申请人： 주식회사 밸류엔지니어링

发明人： 한범섭 ,  서길용

IPC分类号： B23G5/06 ,  B23B51/00

CPC分类号： B23G5/06 ,  B23G2200/48 ,  B23G2225/28

摘要： 본 발명은 선단에 경사진 초기 가공부를 형성하여 초경질의 소재를 순차적으로 가공하여 칩에 의한 절삭날의 파손이 원활히 방지되도록 하는 초경질 소재 가공용 스파이럴 탭에 관한 것으로, 본 탭은 원형 단면의 긴 봉 형태로 구비되고, 후단에 결합부를 가지는 탭몸체와; 상기 탭몸체의 선단에 전방을 향해 경사지면서 뾰쪽하게 가공되어 형성되는 경사날이 상하 한 쌍으로 형성되는 초기 가공부와; 상기 초기 가공부에서 상기 결합부의 직전 까지 형성되고, 상기 탭몸체의 외주면을 따라 나선형으로 형성되며, 내측이 반원형 형태로 라운드지게 형성되는 다수의 나선홈과; 상기 초기 가공부의 후단에서 상기 나선홈이 형성된 부위를 따라 나사산 형태로 형성되는 다수의 절삭날을; 포함한다.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于加工超硬材料的螺旋丝锥，其中在前端形成倾斜的初始加工部分，并且依次加工超硬材料，从而平滑地防止由于切屑而导致的切割刀片的损坏。 该龙头包括：龙头本体，其长杆状设置，后端具有圆形横截面; 初始处理部设置有一对上下倾斜叶片，其被加工成锋利并且朝向龙头本体的前端倾斜; 多个螺旋槽，其设置在所述初始处理部的刚性耦合部之前，沿着所述龙头本体的外周面形成螺旋状，并且具有圆半圆形的内侧部; 以及多个切割刀片，其设置在初始处理部的后端，沿着形成有螺旋形槽的部分形成为螺纹状。

公开(公告)号：WO2017007138A1

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：PCT/KR2016/006190

申请日：2016-06-10

申请人： 주식회사 밸류엔지니어링

发明人： 황규태 ,  임경태 ,  김성균

IPC分类号： H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC分类号： H01J37/317 ,  H01L21/265

摘要： 본 발명은 이온주입기용 리펠러 및 이를 포함하는 이온발생장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면, 반도체 소자의 제조에 이용되는 이온주입용 이온발생장치의 아크챔버를 구성하는 리펠러, 캐소드, 챔버 월, 또는 슬릿 부재 등의 부품에 열변형 안정화 용도, 마모 보호 용도 혹은 증착물 박리 저항 용도로 세미카바이드층 포함 코팅구조를 제공함으로써 이온발생위치가 틀어지거나 장비의 틀어짐 없이 정밀한 이온주입공정을 가능케 하고, 아크챔버 내부로 전자를 균일하게 반사시킬 수 있으므로 플라즈마의 균일도를 증가시켜 이온소스기체의 분해 효율을 향상시킬 뿐 아니라 기존 부품 대비 수명을 현저하게 개선시킨 이온주입기용 부품 및 이를 포함하는 이온발생장치를 제공할 수 있다.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于离子注入机的推斥器和包括该离子注入机的离子发生装置。 根据本发明，可以提供一种用于离子注入机的部件和包括该离子注入机的离子产生装置，其中构成电弧的部件如反转器，阴极，室壁或狭缝部件 或用于制造半导体元件的用于离子注入的离子发生装置的腔室设置有用于热变形稳定的目的的半碳化物层包覆结构，用于磨损保护，或为了 从而能够进行精确的离子注入工艺，其没有离子产生位置的变形和设备的变形，并且电子可以均匀地反射到电弧室中，使得通过提高等离子体的均匀性，不仅 提高了离子源气体的分解效率，但与现有部件相比，使用寿命大大提高。