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公开(公告)号:WO2011005055A2
公开(公告)日:2011-01-13
申请号:PCT/KR2010/004484
申请日:2010-07-09
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67034
Abstract: 본 발명의 목적은 웨이퍼의 손상을 줄일 수 있으며 가스의 사용량을 줄일 수 있는 웨이퍼 건조장치 및 이를 이용한 웨이퍼 건조방법을 제공하는 것이다. 본 발명은 측면에 제 1 회전축이 고정되고 상부에 이동이 가능한 제 2 회전축이 형성되며 하부에 제 1 배수구가 형성되어 있는 챔버; 상기 제 1 회전축과 상기 제 2 회전축에 고정되며 끝단에 웨이퍼를 실장하는 카세트가 고정되는 틸트암; 상기 카세트에 IPA/질소 가스를 공급하는 제 1 노즐; 상기 제 2 회전축이 제 1 방향 또는 제 2 방향으로 이동하도록 하는 스크류; 및 상기 스크류를 회전시키는 구동모터를 포함하는 웨이퍼 건조기 및 이를 이용한 웨이퍼 건조방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 发明内容本发明的目的是提供一种晶片干燥设备以及使用该晶片干燥设备的晶片干燥方法,该晶片干燥设备能够减少晶片的损坏并减少使用的气体的量。 本发明提供一种腔室,其包括:腔室,其具有固定到其一侧的第一旋转轴,能够向上移动的第二旋转轴以及形成在其下部的第一排出端口; 倾斜臂,其固定在第一旋转轴和第二旋转轴上并且用于安装晶片的盒被固定到该倾斜臂; 用于向盒供应IPA /氮气的第一喷嘴; 用于使第二旋转轴沿第一方向或第二方向移动的螺钉; 以及用于旋转螺杆的驱动马达以及使用该马达的晶片干燥方法。