ABERRATIONSKORRIGIERTES MIKROSKOP
    1.
    发明申请
    ABERRATIONSKORRIGIERTES MIKROSKOP 审中-公开
    像差校正显微镜

    公开(公告)号:WO2012025349A1

    公开(公告)日:2012-03-01

    申请号:PCT/EP2011/063320

    申请日:2011-08-02

    CPC classification number: G02B27/0068 G02B21/02

    Abstract: Beschrieben wird ein aberrationskorrigiertes Mikroskop (M), das ein Mikroskopobjektiv (1) zum Abbilden eines Objektes (2) in einen Mikroskopstrahlengang längs einer optischen Achse A ausgebildet ist und das ein Aberrationen korrigierendes Korrekturelement (7) aufweist, wobei das Korrekturelement (7) dem Mikroskopobjektiv (1) in Abbildungsrichtung nachgeordnet ist und nahe einer Pupille (P) des Mikroskopobjektives (1) liegt, wobei das Korrekturelement (7) eine erste und eine zweite Platte (9, 10) mit jeweils zwei Plattenflächen aufweist, wobei eine erste der Plattenflächen (11) der ersten Platte (9) die Oberflächentopographie eines ungeraden Polynoms mindestens 5. Ordnung aufweist und eine erste der Plattenflächen (12) der zweiten Platte (10) dazu komplementär ausgebildet ist.

    Abstract translation: 公开了一种像差校正显微镜(M),该光学轴线A形成一个显微镜物镜(1),用于对对象成像的(2)为沿着显微镜光束路径和像差校正校正元件(7),其中,所述校正元件(7)的 显微镜物镜(1)在成像方向和附近的显微镜物镜(1)的光瞳(P),其中,所述校正元件(7)包括第一和第二板布置在下游(9,10)具有两个板面,所述板面中的第一个 (11)所述第一板(9)具有至少5次的高次多项式,并形成与其互补的第二板(10)的板面(12)中的第一个的表面形貌。

    OPTISCHE ANORDNUNG ZUM BERÜHRUNGSLOSEN MESSEN ODER PRÜFEN EINER KÖRPEROBERFLÄCHE
    2.
    发明申请
    OPTISCHE ANORDNUNG ZUM BERÜHRUNGSLOSEN MESSEN ODER PRÜFEN EINER KÖRPEROBERFLÄCHE 审中-公开
    光学系统,用于非接触式测量或检查体表

    公开(公告)号:WO2010063775A1

    公开(公告)日:2010-06-10

    申请号:PCT/EP2009/066271

    申请日:2009-12-02

    CPC classification number: G01B11/12 G01B11/2433 G01B11/303

    Abstract: Die Erfindung bezieht sich auf eine optische Anordnung zum berührungslosen Messen oder Prüfen von Eigenschaften einer Körperoberfläche, wie Krümmung, Verlauf, Kontur, Rauhigkeit, Lage. Die Anordnung ist sowohl zur Qualitätskontrolle von technischen Oberflächen durch Vermessung oder Vergleich mit Referenzoberflächen als auch zur Vermessung von Mikrostrukturen an Oberflächen geeignet. So können Rauhigkeiten vermessen werden, die kleiner sind als die Wellenlänge des Beleuchtungslichtes. Erfindungsgemäß umfaßt eine optische Anordnung der vorgenannten Art: - Mittel zur Ausbildung eines Spaltes zwischen der Körperoberfläche und einer Referenzkante, - eine Einrichtung zur Abbildung des Spaltes auf einen Detektor, und - eine mit dem Detektor verbundene Auswerteeinrichtung, ausgebildet - zur Ermittlung von nebeneinander liegenden Spaltbreiten anhand der Ausgangssignale des Detektors, und - zur Ermittlung von Krümmung, Verlauf, Kontur oder Rauhigkeit der Körperoberfläche anhand der nebeneinander liegenden Spaltbreiten. Aus dem Vergleich der aus zwei beliebigen Positionen innerhalb eines Bohrlochs gewonnenen Abbildungen kann u.a. auf eine Verkippung zwischen Meßobjekt und Meßeinrichtung geschlußfolgert werden.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于非接触式测量或身体表面的性质,如弯曲,流平性,轮廓,表面粗糙度,层的检查的光学布置。 该装置既适合通过测量或与所述基准表面的比较技术的表面的质量控制,以及用于在表面上的微观结构的测定。 因此粗糙度可以被测量,其比该照明光的波长小。 根据本发明,包括上述类型的光学布置: - 装置,用于形成所述主体表面和参考边缘之间的间隙的装置, - 用于间隙成像到检测器装置,以及 - 连接到所述检测器的评价,训练 - 相邻的间隙宽度的确定 来自检测器的输出信号,以及 - 用于确定所述相邻的间隙宽度的基础上轮廓或身体表面的粗糙度的曲率过程。 从任意两个位置的比较获得了井眼图像内可以除其他外, 可以在DUT和测量装置之间的倾斜结束。

    PROBENHALTER
    3.
    发明申请
    PROBENHALTER 审中-公开
    样品架

    公开(公告)号:WO2013026708A1

    公开(公告)日:2013-02-28

    申请号:PCT/EP2012/065588

    申请日:2012-08-09

    CPC classification number: G01N21/958 G01N21/552 G01N2203/0019 G01N2203/0641

    Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft einen Probenhalter zur Halterung einer zu untersuchenden oder zu bearbeitenden Probe, mit einem Haltesteg, der einen Sockel, zumindest eine Lichtquelle undein elastisches transparentes Materialstück aufweist. Das Materialstück ist mit einer Auskoppelfläche ausgestattet, die zur Halterung der Probe und zur Einkopplung von von der Lichtquelle abgestrahlten Lichts in die Probe mit der Probe kontaktierbar ist.

    Abstract translation: 本发明涉及一种样本保持器,用于保持待检查或待处理的样品的受试者,具有保持接片,其具有基部,至少一个光源和一弹性的透明材料片。 材料件设置有去耦表面,接触用于保持样品和用于从所述光源辐射到与所述样品的样品耦合。

    VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER INNEREN STRUKTUR EINER PROBE
    4.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER INNEREN STRUKTUR EINER PROBE 审中-公开
    方法用于对样品进行确定内部结构

    公开(公告)号:WO2011039118A1

    公开(公告)日:2011-04-07

    申请号:PCT/EP2010/064166

    申请日:2010-09-24

    Abstract: Es wird beschrieben ein Verfahren zur Bestimmung der inneren Struktur einer Probe, wobei mittels optischer Weglängen erfassender Abbildungen Schnittbilder in mindestens einer ersten, in die Probe hineinverlaufenden Ebene erzeugt werden, wobei längs einer ersten Abbildungsrichtung ein erstes Schnittbild der Probe das in der in die Probe hineinverlaufenden Ebene liegt, erzeugt wird, längs einer zweiten Abbildungsrichtung ein zweites Schnittbild der Probe, das ebenfalls in der in die Probe hineinverlaufenden Ebene liegt, erzeugt wird, erste optische Koordinaten mindestens eines Strukturelementes im ersten Schnittbild und zweite optische Koordinaten des mindestens einen Strukturelementes im zweiten Schnittbild ermittelt werden, und aus ersten und zweiten Koordinaten die bei den Abbildungen wirksame Brechzahl ermittelt und damit brechzahlbeeinflussungskorrigierte physikalische Koordinaten des mindestens einen Strukturelementes bestimmt werden.

    Abstract translation: 本发明描述了确定样品的内部结构的方法,所述截面图像在至少一个第一生成,内部通过的光路的装置在样品平面运行长度检测所述图像,其中,沿着第一成像方向,所述样品的第一截面图像,所述内部中延伸的样本中 平面,沿第二成像方向产生是样品,这也是在样品平面中产生的内部运行,在所述第一截面图像的至少一个结构元件的第一光学坐标,并且在所述第二截面图像的所述至少一个结构元件的第二光学坐标的第二截面图像 是确定的,并且从第一和第二坐标确定在图像的有效折射率,因此,折射率校正影响所述至少一个结构元件的物理坐标。

    MIKROSKOPIE ZUM ERMITTELN EINER ANGABE ÜBER EINE BRECHZAHL IM INNEREN MINDESTENS EINES TEILS EINER PROBE
    5.
    发明申请
    MIKROSKOPIE ZUM ERMITTELN EINER ANGABE ÜBER EINE BRECHZAHL IM INNEREN MINDESTENS EINES TEILS EINER PROBE 审中-公开
    观察确定声明对一些BREAKING内部的至少一个样品的一部分

    公开(公告)号:WO2013023984A1

    公开(公告)日:2013-02-21

    申请号:PCT/EP2012/065579

    申请日:2012-08-09

    CPC classification number: G01N21/4133 G01N21/4795 G01N2021/4173

    Abstract: Bei einem Verfahren zum Ermitteln einer Angabe über eine Brechzahl im Inneren mindestens eines Teils einer Probe (3) werden folgendes Schritte ausgeführt: a) unter dem Teil der Probe (3) wird eine Referenzfläche (3.2; 4) mit vorbekannter Oberflächenform vorgesehen, b) mit optischer Mikroskopie wird der Teil der Probe (3) für eine Vielzahl von Fokusebenen abgebildet, wobei die Abbildung von einer Seite der Probe her erfolgt, die der Referenzfläche (3.2; 4) gegenüber liegt, c) aus den Abbildungen wird ein Schnitt-Bild (8) oder ein 3D-Bild der Probe enthaltend ein Bild der Referenzfläche (8.2) erzeugt, d) Abweichungen zwischen dem Bild der Referenzfläche (8.2) und der vorbekannten Oberflächenform werden ermittelt, e) auf Basis der Abweichungen wird die Angabe über die Brechzahl im Inneren des Teils der Probe (3) ermittelt.

    Abstract translation: 在用于确定样品的至少一部分的内部的折射率的指示的方法被执行(3)的以下步骤:a)(样品3),一个参考表面(3.2的部分的下方; 4)被提供有先前已知的表面形状,b)中 所述样品的所述部分的光学显微镜(3)进行成像的多个焦平面,从这里所述样品的一侧上的映射被执行,所述参考表面(3.2; 4)附图的反对c)是横截面图像 生成(8)或包含参考表面(8.2)的图像样品的3D图像,d)是确定的参考面(8.2)和先前已知的表面形状的图像之间的差异,E)的偏差的基础上是折射率的指示 在样品(3)的部分的内部确定的。

    DREIDIMENSIONALE ABBILDUNG EINER PROBENSTRUKTUR
    6.
    发明申请
    DREIDIMENSIONALE ABBILDUNG EINER PROBENSTRUKTUR 审中-公开
    一个样本结构的三维立体画

    公开(公告)号:WO2011018481A1

    公开(公告)日:2011-02-17

    申请号:PCT/EP2010/061702

    申请日:2010-08-11

    CPC classification number: G01N21/4795

    Abstract: Es wird beschrieben ein Verfahren zur Bestimmung einer inneren Struktur einer Probe, wobei mit einem ersten optischen Verfahren ein erstes Bild der inneren Struktur der Probe gewonnen wird, das mit einer ersten Ortsauflösung die Lage von Streuzentren in der Probe wiedergibt, wobei die Abbildung mit dem ersten optischen Verfahren einer Verzerrung durch Brechzahlvariationen in der Probe unterliegt, mit einem zweiten optischen Verfahren ein zweites Bild der inneren Struktur der Probe gewonnen wird, das die Lage von Streuzentren in der Probe wiedergibt, wobei die Abbildung mit dem zweiten optischen Verfahren keiner oder einer geringeren Verzerrung durch Brechzahlvariationen in der Probe unterliegt und wobei das zweite Bild eine zweite Ortsauflösung hat, die geringer ist, als die erste Ortsauflösung, im ersten Bild erste Vergleichsstrukturen und im zweiten Bild zweite Vergleichsstrukturen ermittelt werden, wobei die ersten und zweiten Vergleichsstrukturen sich entsprechen und von jeweils gleichen Probenstrukturen stammen, für die Probe eine auf das erste Bild bezogene Brechzahlverteilung so definiert wird, daß die Brechzahlverteilung eine Korrektur des ersten Bildes derart bewirkt, daß die ersten Vergleichsstrukturen im korrigierten ersten Bild im wesentlichen an denselben Probenorten liegen wie die zugeordneten zweiten Vergleichsstrukturen im zweiten Bild.

    Abstract translation: 中描述了一种方法,用于确定一个样品,其中用与第一空间分辨率,样品中散射体的位置再现的第一光学方法得到的样品的内部结构的第一图像的内部结构,其中,所述图像的第一与 在样品中引起的折射率变化的失真的光学方法进行样品的内部结构的第二图像与其再现所述样品中的散射中心的位置的第二光学方法,其中与所述第二光学装置的图像中提取出没有或者有较少畸变 受试者被样品中的折射率的变化和其中所述第二图像具有第二空间分辨率,比在第一图像的第一比较结构中的第一空间分辨率低,第二次在第二比较结构被确定,其中第一和第二比较结构对应于彼此并在每种情况下 相同样品的结构发起相关的第一图像折射率分布为示例定义,是所述折射率分布导致第一图像的校正,使得基本上定位在第二相同的样本位置与相关的第二比较结构中的校正后的第一图像中的第一比较结构 图像。

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