公开(公告)号：WO2007124890A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：PCT/EP2007/003577

申请日：2007-04-24

Applicant: FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH ,  ULRICH, Sven ,  STÜBER, Michael ,  LEISTE, Harald ,  HOLLECK, Helmut

Inventor： ULRICH, Sven ,  STÜBER, Michael ,  LEISTE, Harald ,  HOLLECK, Helmut

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50

CPC classification number: C23C14/06 ,  C04B35/5611 ,  C04B35/58014 ,  C04B2235/3418 ,  C23C14/0676 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/252

Abstract: Multifunktionelle Hartstoff beschichtung auf einem Substrat, wobei die Hartstoff beschichtung ein einphasiges und kristallines Gefüge aufweist. Die Aufgabe liegt darin, eine Hartstoff beschichtung vorzuschlagen, die die Vorteile von metallischen und ionischen Hartstoffschichten in sich vereint. Die Aufgabe wird durch die vorgenannte Hartstoff beschichtung gelöst, die metastabile Mischkristalle aus mindestens zwei nicht miteinander lösbaren Hartstoffen als Materialbestandteile umfassen, wobei die Materialbestandteile mindestens einen metallischen Hartstoff (4) und einen ionischen Hartstoff (6) umfassen.

Abstract translation: 在基板上的多官能的硬质材料涂层，所述具有单相和晶体结构的硬涂层。 的目的是提出一个硬质材料涂层，其结合了金属本身和离子的硬质材料层的优点。 该目的通过由亚稳混合晶体的从至少两个不可释放到每个其它硬质材料作为构成材料的上述硬质材料，其中所述材料成分包括至少一种金属的硬质材料来解决涂层（4）和离子性的硬质材料（6）。

公开(公告)号：WO2011113548A1

公开(公告)日：2011-09-22

申请号：PCT/EP2011/001171

申请日：2011-03-10

Applicant: KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE ,  JAUCH, Raphael ,  LEISTE, Harald ,  STÜBER, Michael ,  ULRICH, Sven ,  DIECHLE, Dominic ,  JAUCH, Raphael

Inventor： JAUCH, Raphael ,  LEISTE, Harald ,  STÜBER, Michael ,  ULRICH, Sven ,  DIECHLE, Dominic ,  JAUCH, Raphael

IPC: C04B35/105 ,  C04B35/117 ,  C04B35/12 ,  C23C14/06 ,  C04B35/581

CPC classification number: C04B35/581 ,  C04B35/58007 ,  C04B2235/402 ,  C04B2235/404 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/767 ,  C04B2235/81 ,  C23C14/0676

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft einen hexagonalen Mischkristall aus einem Al-Cr-O-N Stoffsystem, ein Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung. Der hexagonaler Mischkristall aus einem Al-Cr-O-N Stoffsystem mit der Formel α- (Al x ,Cr 1-x ) 2+δ (O 1-y ,N y ) 3 , wobei α die hexagonale Gitterstruktur bezeichnet, x einen Wert von 0,1 bis 0,9 hat, y einen Wert von 0,05 bis 0,2 hat und δ einen Wert von -0,6 bis 0 aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines hexagonalen Mischkristalls aus einem Al-Cr-O-N Stoffsystem. Dies ist mittels physikalischer Gasphasenabscheidung oder einer Kombination aus physikalischer und chemischer Gasphasenabscheidung möglich. Die Schichten mit der erfindungsgemäßen Zusammensetzung und Struktur sind aufgrund ihrer Härtewerte besonders für die Verwendung als Hartstoff schicht geeignet.

Abstract translation: 本发明涉及一种Al-Cr系O-N材料系统中，其制备方法和其使用的过程的六方混合晶体。 用下式的（ALX，铬1-x）2 + D（O1-γ，NY）3，其中a为六方晶格结构的Al-Cr系ON材料系统的六方混合晶体，x具有从0.1到值 是0.9，y具有0.05至0.2的值和d具有从-0.6到0的值。 本发明还涉及一种用于制造的Al-的Cr-O-N材料系统的六边形混晶的方法。 这通过物理气相沉积或物理和化学气相沉积的组合的装置是可能的。 用本发明的组合物和结构中的层是合适的，因为它们的硬度值的特别是用作硬质材料层。

公开(公告)号：WO2003043390A3

公开(公告)日：2003-05-22

申请号：PCT/EP2002/011601

申请日：2002-10-17

Applicant: FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH ,  ULRICH, Sven ,  STÜBER, Michael ,  LEISTE, Harald ,  NIEDERBERGER, Lorenz ,  SELL, Konrad ,  LATTEMANN, Martina ,  LOOS, Roland

Inventor： ULRICH, Sven ,  STÜBER, Michael ,  LEISTE, Harald ,  NIEDERBERGER, Lorenz ,  SELL, Konrad ,  LATTEMANN, Martina ,  LOOS, Roland

IPC: H01J37/32

Abstract: Eine Einrichtung zur Erzeugung eines lokalen Elektron-Zyklotron-Mikrowellen-Niederdruckplasmas an einem vorgebbaren Ort innerhalb der Prozesskammer der Einrichtung besteht aus einer mit einem Mikrowellenspiegel versehenen Mikrowellenabstrahlvorrichtung, MAV, und einer Plasmalokalisierungseinheit, PLE, die mit ihrem im Freien verlaufenden Magnetfeld den reflektierten Mikrowellenstrahl kreuzt. Die Auskopplung für die Mikrowelle ist auf einen konisch konkaven Spiegel gerichtet und sitzt im Brennpunkt der Reflexionsfläche. Diese Fläche ist parabolisch, kann aber auch davon abweichend ellipsoid oder hyperboloid sein, and überdeckt den Brennpunkt. Auf jeden Fall ist der Gang des reflektierten Mik-rowellenstrahls parallel, zumindest aber annähernd parallel. Ein auf einem Substrathalter exponiertes Substrat steht im reflektierten Strahlengang der Mikrowelle. Ein Einrichtung zur Erzeugung eines Magnetfeldes kann entlang der Strahlachse des reflektierten Mikrowellenstrahls beliebig verschoben werden, so dass das im Freien verlaufende bauchige Magnetfeld mit dem Mickrowellenstrahl ein Kreuzungsvolumen bildet, in dem über die Magnetfeldsträrke, der Mikrowellenfrequenz und der Gasdichte darin die Bedingung für die Elektron-Zyklotron-Resonanz eingestellt werden kann. Durch die Verschiebung des Magnetfeldes kann das Substrat in die Nähe des Plasmas gebracht oder gar darin eingetaucht werden.

公开(公告)号：WO2006122608A1

公开(公告)日：2006-11-23

申请号：PCT/EP2006/002934

申请日：2006-03-31

Applicant: FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH ,  SEEMANN, Klaus ,  LEISTE, Harald ,  BEKKER, Viacheslav ,  ZILS, Stefan

Inventor： SEEMANN, Klaus ,  LEISTE, Harald ,  BEKKER, Viacheslav ,  ZILS, Stefan

IPC: H01L23/552

CPC classification number: H01L23/552 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Dämpfung von Reflexionen einer auf die Vorrichtung auftreffenden elektromagnetischen Welle, die auf einem Substrat aufgebracht ist und eine Schicht aus einem ferro- oder ferrimagnetischen Material umfasst, in die eine Struktur so eingebracht ist, dass darunter eine durchgängige Schicht aus dem ferro- oder ferrimagnetischen Material besteht, wodurch die strukturierte Schicht mindestens zwei voneinander verschiedene Resonanzfrequenzen aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Vorrichtung sowie ihre Verwendung zur Abschirmung von elektronischen Bauteilen.

Abstract translation: 本发明涉及一种设备，用于在设备的电磁波，其在基板上施加衰减的碰撞的反射和包括铁磁或亚铁磁材料层，其中的结构被引入作为包括的连续层 铁磁或亚铁磁材料，由此图案化层包含彼此的至少两个不同的谐振频率。 本发明还涉及一种用于制造这样的装置以及它们的用于电子部件的屏蔽使用的方法。

公开(公告)号：WO2006105877A1

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：PCT/EP2006/002756

申请日：2006-03-25

Applicant: FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH ,  BEKKER, Viacheslav ,  LEISTE, Harald ,  SEEMANN, Klaus ,  ZILS, Stefan

Inventor： BEKKER, Viacheslav ,  LEISTE, Harald ,  SEEMANN, Klaus ,  ZILS, Stefan

IPC: H01F41/34

CPC classification number: H01F41/34 ,  H01F10/14 ,  H01F41/18 ,  Y10T428/12361

Abstract: Die Erfindung betrifft eine dünne ferro- oder ferrimagnetische Schicht, die auf einem Substrat aufgebracht ist und mindestens einen länglichen Schlitz zur Einstellung der Domänenstruktur im ferro- oder ferrimagnetischen Material umfasst, dessen Tiefe der Dicke der Schicht entspricht, dessen Breite größer als die Austauschlänge des Materials ist und der so angebracht ist, dass er die Seite der Schicht nicht berührt. Weiterhin betrifft die Erfindung Verfahren zur Herstellung einer derartigen Schicht und ihre Verwendung in magnetoelektronischen oder spintronischen Bauelementen.

Abstract translation: 本发明涉及由沉积在一个基片上和至少一个细长狭槽包括：在所述铁磁或亚铁磁材料终止域结构的薄铁磁性或亚铁磁性层，该层的厚度的深度对应于它的宽度比所述材料的交换长度大 并且被安装成使得其不接触该层的一侧上。 此外，本发明提供了一种用于制造这样的层和其在磁 - 电子或自旋电子器件涉及使用方法。

公开(公告)号：WO2003043390A2

公开(公告)日：2003-05-22

申请号：PCT/EP2002/011601

申请日：2002-10-17

Applicant: FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH ,  ULRICH, Sven ,  STÜBER, Michael ,  LEISTE, Harald ,  NIEDERBERGER, Lorenz ,  SELL, Konrad ,  LATTEMANN, Martina ,  LOOS, Roland

Inventor： ULRICH, Sven ,  STÜBER, Michael ,  LEISTE, Harald ,  NIEDERBERGER, Lorenz ,  SELL, Konrad ,  LATTEMANN, Martina ,  LOOS, Roland

IPC: H05H1/00

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J37/32275 ,  H01J37/32678 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4622

Abstract: Eine Einrichtung zur Erzeugung eines lokalen Elektron-Zyklotron-Mikrowellen-Niederdruckplasmas an einem vorgebbaren Ort innerhalb der Prozesskammer der Einrichtung besteht aus einer mit einem Mikrowellenspiegel versehenen Mikrowellenabstrahlvorrichtung, MAV, und einer Plasmalokalisierungseinheit, PLE, die mit ihrem im Freien verlaufenden Magnetfeld den reflektierten Mikrowellenstrahl kreuzt. Die Auskopplung für die Mikrowelle ist auf einen konisch konkaven Spiegel gerichtet und sitzt im Brennpunkt der Reflexionsfläche. Diese Fläche ist parabolisch, kann aber auch davon abweichend ellipsoid oder hyperboloid sein, and überdeckt den Brennpunkt. Auf jeden Fall ist der Gang des reflektierten Mik-rowellenstrahls parallel, zumindest aber annähernd parallel. Ein auf einem Substrathalter exponiertes Substrat steht im reflektierten Strahlengang der Mikrowelle. Ein Einrichtung zur Erzeugung eines Magnetfeldes kann entlang der Strahlachse des reflektierten Mikrowellenstrahls beliebig verschoben werden, so dass das im Freien verlaufende bauchige Magnetfeld mit dem Mickrowellenstrahl ein Kreuzungsvolumen bildet, in dem über die Magnetfeldsträrke, der Mikrowellenfrequenz und der Gasdichte darin die Bedingung für die Elektron-Zyklotron-Resonanz eingestellt werden kann. Durch die Verschiebung des Magnetfeldes kann das Substrat in die Nähe des Plasmas gebracht oder gar darin eingetaucht werden.

Abstract translation: 装置，用于在该设备的处理腔室中的预定位置处产生的局部电子回旋微波低压等离子体由一个设置有一个微波镜Mikrowellenabstrahlvorrichtung，MAV和等离子体定位单元，PLE，这与其延伸磁场的反射微波束外侧交叉的 ， 的微波的解耦被引导到锥形凹面镜和在反射面的焦点位于。 该表面是抛物线形的，但也可以是，尽管，椭圆形或双曲面，并且覆盖的焦点。 在任何情况下，反射Mik的-rowellenstrahls的路径是平行的，但至少近似平行。 的基板支架上的暴露的衬底是在微波的反射光路中。 一种用于产生磁场的装置可以被移动到沿着反射微波束的束轴的任何位置，使得运行在户外球根磁场形成与Mickrowellenstrahl的交点体积其中在Magnetfeldsträrke，微波频率和气体密度，对于电子的条件 回旋共振可以调整。 由于磁场的位移，该基底可以被带入等离子体附近或甚至在其中浸渍。