MULTICHANNEL ECHO CANCELLER
    1.
    发明申请
    MULTICHANNEL ECHO CANCELLER 审中-公开
    多通道ECHO CANCELLER

    公开(公告)号:WO2010118763A1

    公开(公告)日:2010-10-21

    申请号:PCT/EP2009/003446

    申请日:2009-05-14

    CPC classification number: H04M9/082 H04R3/02 H04S2420/03 H04S2420/11

    Abstract: An acoustic echo suppression unit (210) according to an embodiment of the present invention comprises and input interface (230) for extracting a downmix signal (310) from an input signal (300), the input signal comprising the downmix signal (310) and parametric side information (320), wherein the downmix and the parametric side information together represent a multichannel signal, a calculator (220) for calculating filter coefficients for an adaptive filter (240), wherein the calculator (220) is adapted to determine the filter coefficients based on the downmix signal (310) and a microphone signal (340) or a signal derived from the microphone signal, and an adaptive filter (240) adapted to filter the microphone signal (340) or the signal derived from the microphone signal based on the filter coefficients to suppress an echo caused by the multichannel signal in the microphone signal (340).

    Abstract translation: 根据本发明实施例的声学回声抑制单元(210)包括用于从输入信号(300)提取下混信号(310)的输入接口(230),该输入信号包括下混合信号(310)和 参数侧信息(320),其中所述下混合和所述参数侧信息一起表示多信道信号,用于计算自适应滤波器(240)的滤波器系数的计算器(220),其中所述计算器(220)适于确定所述滤波器 基于下混合信号(310)和麦克风信号(340)或从麦克风信号导出的信号的系数,以及适于滤除麦克风信号(340)或从麦克风信号导出的信号的自适应滤波器(240) 对滤波器系数进行抑制以抑制由麦克风信号中的多声道信号引起的回波(340)。

    VERFAHREN UND INFORMATIONSSYSTEM ZUR DURCHFÜHRUNG EINER KLINISCHEN STUDIE AN EINEM PATIENTEN
    5.
    发明申请
    VERFAHREN UND INFORMATIONSSYSTEM ZUR DURCHFÜHRUNG EINER KLINISCHEN STUDIE AN EINEM PATIENTEN 审中-公开
    流程和信息系统技术的临床研究的患者实施情况

    公开(公告)号:WO2005081164A2

    公开(公告)日:2005-09-01

    申请号:PCT/EP2005/050553

    申请日:2005-02-09

    CPC classification number: G06Q50/24 G06F19/00 G16H10/20 G16H10/60 G16H80/00

    Abstract: Bei einem Verfahren zur Durchführung einer klinischen Studie (2) an einem Patienten (4) werden während der klinischen Stu­die (2) studien- oder patientenbezogene Daten (14, 16) in ei­nem Speicher (12) abgelegt (13, 29), die von einem dem Patien­ten (4) zugeordneten studienfremden Arzt (22) auslesbar (27) sind. Ein Informationssystem für eine klinische Studie (2) an einem Patienten (4) enthält einen, dem Patienten (4) zugeord­neten Speicher (12) für studien- oder patientenbezogene Daten (14, 16), und ein Dateneingabegerät (15) zum Ablegen von Daten (14, 16) im Speicher (12), und ein Datenlesegerät (25) zum Auslesen der Daten (14, 16) vom Speicher (12), wobei das Da­tenlesegerät (25) einem studienfremden, dem Patienten (4) zu­geordneten Arzt (22) zugänglich ist.

    Abstract translation: 在用于临床研究期间进行临床研究(2)对患者(4)的方法(2)的研究或存储在存储器(12)(13,29)与患者有关的数据(14,16),的 与病人(4)研究外国医生(22)可以读取(27)相关联。 用于临床研究(2)到患者的信息系统(4)包含一个,患者(4),相关联,用于研究或患者有关的数据(14,16),用于存储数据的存储器(12),和一个数据输入装置(15) 在存储器(12),以及用于从所述存储器(12)读出的数据(14,16)的数据读取器(25)(14,16),所述数据读取器(25)的一项研究外国到患者(4)与医生相关联(22 )进行访问。

    METHOD FOR THE MANUFACTURE OF MICRO STRUCTURES
    9.
    发明申请
    METHOD FOR THE MANUFACTURE OF MICRO STRUCTURES 审中-公开
    微结构的制造方法

    公开(公告)号:WO02054458A3

    公开(公告)日:2003-03-27

    申请号:PCT/EP0115256

    申请日:2001-12-21

    Inventor: SCHMIDT MARKUS

    CPC classification number: B81C1/00619 G03F7/40 H01L21/0273

    Abstract: A method for the manufacture of micro metallic structures having high aspect ratios is provided, wherein said method comprises the step of photolithographically producing trenches in a substrate. Polymer chains are formed on the inner surface of said trenches. Thus, the critical dimensions in the photolithographical process can be reduced to any dimension down to zero. The method is quite general in its application to any process that includes the definition of a critical dimension by photolithography. Immediate applications are the reduction of the read and write dimensions in thin film magnetic heads, but the invention can be used in any technology where the manufacture of microstructures having a high aspect ratio is of interest.

    Abstract translation: 提供一种用于制造具有高纵横比的微型金属结构的方法,其中所述方法包括在衬底中光刻制造沟槽的步骤。 聚合物链形成在所述沟槽的内表面上。 因此,光刻工艺中的临界尺寸可以降低到零至零的任何尺寸。 该方法在其应用于包括通过光刻术定义临界尺寸的任何工艺方面是相当普遍的。 立即应用是在薄膜磁头中减小读取和写入尺寸,但是本发明可以用于制造具有高纵横比的微结构感兴趣的任何技术中。

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