公开(公告)号：WO2019096391A1

公开(公告)日：2019-05-23

申请号：PCT/EP2017/079469

申请日：2017-11-16

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  WOLFF, Alexander

发明人： WOLFF, Alexander

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/56

CPC分类号： C23C14/0021 ,  C23C14/081 ,  C23C14/564

摘要： A method and apparatus for depositing an insulation layer of a metal oxide (e.g. AlOx) on a flexible substrate. The method comprises: vaporizing a metal, in particular aluminum, from a source material comprising the metal; introducing a gas flow comprising oxygen in a manner that an interaction of the oxygen with the source material is prevented; generating a metal oxide vapor by the interaction of the metal vapor with the oxygen; and directing the metal oxide vapor to the substrate.

公开(公告)号：WO2013004301A1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：PCT/EP2011/061330

申请日：2011-07-05

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  HOFFMANN, Gerd ,  KLEMM, Günter ,  LOTZ, Hans-Georg ,  WOLFF, Alexander

发明人： HOFFMANN, Gerd ,  KLEMM, Günter ,  LOTZ, Hans-Georg ,  WOLFF, Alexander

IPC分类号： C08J3/28

CPC分类号： C08J3/28 ,  C08J2300/00 ,  C08J2323/00 ,  C08J2367/00 ,  C08J2377/00

摘要： A method of processing a flexible substrate includes providing a flexible substrate having a polymerized surface; emitting an electron beam; exposing the polymerized surface to the electron beam; modifying the polymerized surface by the exposure to the electron beam; and depositing a barrier layer on the modified surface.

摘要翻译： 一种处理柔性基板的方法包括提供具有聚合表面的柔性基板; 发射电子束; 将聚合表面暴露于电子束; 通过暴露于电子束来修饰聚合表面; 以及在改性表面上沉积阻挡层。

公开(公告)号：WO2012146312A1

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：PCT/EP2011/056879

申请日：2011-04-29

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  HOFFMANN, Gerd ,  WOLFF, Alexander

发明人： HOFFMANN, Gerd ,  WOLFF, Alexander

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/56

CPC分类号： C23C14/243 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/562 ,  C23C14/564

摘要： A gas lance unit configured for a reactive deposition process with a plurality of spaced apart crucibles 120, wherein spaces are provided between the crucibles, is described. The gas lance unit includes a gas guiding tube 130 having one or more outlets 30 for providing a gas 4 for the reactive deposition process, and a condensate guiding element 140 for guiding a condensate, particularly an aluminum condensate, to one or more positions above the spaces.

摘要翻译： 描述了一种用于具有多个间隔开的坩埚120的反应性沉积工艺的气枪单元，其中在坩埚之间设置空间。 气体喷枪单元包括具有一个或多个出口30的气体引导管130，用于提供用于反应沉积过程的气体4，以及用于将冷凝物，特别是铝冷凝物引导到上述一个或多个位置的冷凝物引导元件140 空间。

公开(公告)号：WO2012146310A1

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：PCT/EP2011/056877

申请日：2011-04-29

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  HOFFMANN, Gerd ,  WOLFF, Alexander

发明人： HOFFMANN, Gerd ,  WOLFF, Alexander

IPC分类号： C23C14/58 ,  C23C14/56 ,  C23C14/20

CPC分类号： C23C16/403 ,  C23C14/20 ,  C23C14/562 ,  C23C14/5853

摘要： An apparatus for passivating a coating of a flexible substrate includes a coating chamber for coating the flexible substrate, a chamber separation element, the chamber separation element being arranged for separating the coating chamber from a further chamber, a coating drum, the coating drum and the chamber separation element forming a gap, and a gas inlet, the gas inlet being arranged within the chamber separation element for supplying oxygen into the gap.

摘要翻译： 用于钝化柔性基底的涂层的装置包括用于涂覆柔性基底的涂布室，腔室分离元件，腔室分离元件被布置成用于将涂覆室与另外的室分离，涂布滚筒，涂布滚筒和 形成间隙的室分离元件和气体入口，气体入口设置在室分离元件内，用于将氧气供应到间隙中。

公开(公告)号：WO2012034587A1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：PCT/EP2010/063484

申请日：2010-09-14

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  HOFFMANN, Gerd ,  KLEMM, Günter ,  LOTZ, Hans-Georg ,  WOLFF, Alexander

发明人： HOFFMANN, Gerd ,  KLEMM, Günter ,  LOTZ, Hans-Georg ,  WOLFF, Alexander

IPC分类号： C23C14/08 ,  C23C14/20 ,  C23C14/56 ,  C23C16/54 ,  C23C14/50 ,  C23C16/458

CPC分类号： B05D3/068 ,  C23C14/081 ,  C23C14/20 ,  C23C14/50 ,  C23C14/562 ,  C23C16/458 ,  C23C16/545

摘要： A system (100) for processing a flexible substrate (110) is provided. The system includes: a vacuum chamber (120); a first roller (104) adapted for transporting the flexible substrate (110) and adapted for laterally stretching the flexible substrate (110); a processing drum (106) disposed in the vacuum chamber (120), the processing drum (106) being rotatable with respect to a longitudinal axis (112) of the processing drum (106), the processing drum (106) having a processing drum length along the longitudinal axis (112), and the processing drum (106) being adapted for receiving the stretched flexible substrate (110) at a first position (118) with respect to the vacuum chamber (120); and a charged particle beam device (108) adapted for charging at least a portion of the flexible substrate (110) on the processing drum (106) at a first area (114) with respect to the vacuum chamber (120). The ratio of the minimum distance between the first position (118) and the first area (114) along the surface of the processing drum in the direction of rotation of the processing drum (106) to the processing drum length is larger than 3: 100.

摘要翻译： 提供了一种用于处理柔性基板（110）的系统（100）。 该系统包括：真空室（120）; 第一辊（104）适于传送柔性基底（110）并适于侧向拉伸柔性基底（110）; 处理鼓（106），设置在所述真空室（120）中，所述处理鼓（106）可相对于所述处理鼓（106）的纵向轴线（112）旋转，所述处理鼓（106）具有处理鼓 沿着纵向轴线（112）的长度，以及处理鼓（106）适于在相对于真空室（120）的第一位置（118）处接收拉伸的柔性基底（110）; 以及适于在相对于所述真空室（120）的第一区域（114）处对所述处理鼓（106）上的所述柔性基板（110）的至少一部分进行充电的带电粒子束装置（108）。 沿着处理滚筒的表面处理滚筒（106）的旋转方向到处理滚筒长度的第一位置（118）和第一区域（114）之间的最小距离的比率大于3：100 。