公开(公告)号：WO2009072360A1

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：PCT/JP2008/069352

申请日：2008-10-24

申请人： セントラル硝子株式会社 ,  菊池 亜紀応 ,  毛利 勇

发明人： 菊池 亜紀応 ,  毛利 勇

IPC分类号： B01D53/14 ,  B01D53/34 ,  B01D53/68 ,  B01D53/77

CPC分类号： B01D53/68 ,  B01D53/77 ,  B01D2251/304 ,  B01D2251/306 ,  B01D2251/60 ,  B01D2257/204 ,  B01D2258/0216 ,  C01B7/0706 ,  C01B7/195

摘要： 【課題】　本発明の課題は、ガス中のＣｌＯ 3 Ｆを除去できる安価な除去方法を提供することである。 【解決手段】　ＣｌＯ 3 Ｆを不純物として含むガスを還元剤と反応させることにより、ガス中の不純物であるＣｌＯ 3 Ｆを安価に除去することが可能となる。または、水溶液中の標準電極電位が－０．０９２Ｖ以下である還元剤を用いるか、 還元剤を水溶液の状態で反応に用いることにより、ガス中の不純物であるＣｌＯ 3 Ｆを安価に除去することが可能となる。

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种可从气体中去除ClO 3 F的廉价的去除方法。 作为杂质的气体中含有的ClO 3F可以通过使气体与还原剂反应而以低成本从气体中除去。 当在水溶液中制备还原剂时，水溶液的标准电极电位为-0.092V以下。 还原剂可以以水溶液的形式用于反应中。

公开(公告)号：WO2009113362A1

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：PCT/JP2009/052553

申请日：2009-02-16

申请人： セントラル硝子株式会社 ,  毛利 勇 ,  菊池 亜紀応

发明人： 毛利 勇 ,  菊池 亜紀応

IPC分类号： C01B11/24

CPC分类号： C01B11/24 ,  C01B7/24

摘要： 含酸素ハロゲン化フッ化物の製造において気液反応を用いる製造方法が開示されている。この方法は、フッ化ハロゲンとフッ素とを含有する混合ガスと、Ｈ 2 Ｏ源とを反応させる、一般式：ＸＯ m Ｆ（但し、Ｘは前記フッ化ハロゲンを構成するハロゲン元素（Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ）を、ｍは３または４をそれぞれ表す。）で表される含酸素ハロゲン化フッ化物の製造方法である。

摘要翻译： 公开了一种使用气液反应的含氧卤代氟化物的制造方法。 具体公开的是由以下通式表示的含氧卤代氟化物的制造方法：XOmF（其中，X表示构成卤素氟化物的卤素原子（Cl，Br或I），m表示3或4），其中， 含有卤素氟和氟的混合气体与H 2 O源反应。