公开(公告)号：WO2008032698A1

公开(公告)日：2008-03-20

申请号：PCT/JP2007/067639

申请日：2007-09-11

Applicant: 東ソー株式会社 ,  東ソー・エスジーエム株式会社 ,  新井 一喜 ,  高畑 努 ,  橋本 眞吉 ,  内田 雅人 ,  山田 修輔 ,  原田 美徳 ,  堀越 秀春

Inventor： 新井 一喜 ,  高畑 努 ,  橋本 眞吉 ,  内田 雅人 ,  山田 修輔 ,  原田 美徳 ,  堀越 秀春

IPC: C03B20/00

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

Abstract: 　波長２４５ｎｍの紫外光に対する厚さ１０ｍｍでの内部透過率が９５％以上であり、ＯＨ含有量が５ｐｐｍ以下、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｃｕの含有量が各々０．１ｐｐｍ未満である熔融石英ガラス。好ましくは、この熔融石英ガラスの１２１５°Cにおける粘性率は１０ 11.5 Ｐａ・ｓ以上であり、また、１０５０°Cで大気中に２４時間放置時の、表面からの深さが２０μｍを超え、１００μｍまでの領域におけるＣｕイオンの拡散係数が１×１０ -10 ｃｍ 2 ／ｓｅｃ以下である。この熔融石英ガラスは、原料シリカ粉をクリストバライト化し、次いで、非還元性雰囲気中で熔融することにより製造される。この熔融石英ガラスは、紫外線、可視光線、赤外線の透過率が高く、高純度で耐熱性が高く、金属不純物の拡散速度が小さいという特性を有し、各種光学材料、半導体製造用部材、液晶製造用部材などとして好適である。

Abstract translation: 包含5ppm以下的OH和Li，Na，K，Mg，Ca和Cu的熔融石英玻璃，其含量小于0.1ppm，表现出内部透射率，以10mm的厚度测量， 相对于245nm波长的紫外线辐射，为95％以上。 优选地，熔融石英玻璃在1215℃下的粘度系数为11.5Pa·s以上，并且显示Cu离子扩散系数，其在超过20μm至100nm的范围内测量 当在1050℃的大气中放置24小时时，其表面深度为10埃-10 -2厘米2 /秒以下。 该熔融石英玻璃通过将原料二氧化硅粉末转化为方英石，然后在非还原性气氛中将其熔融而制得。 该熔融石英玻璃具有紫外线，可见光和红外线的透射率高，高纯度，耐热性高，金属杂质扩散速度低的特性，因此适用于 各种光学材料，半导体制造用构件，液晶制造用构件等。