摘要:
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zum Erzeugen von Oberflächenstrukturen (10) an einem lasertransparenten Werkstück (2), insbesondere aus Glas oder Kunststoff, werden ein oder mehrere UKP-Laserpulse (5) durch die Werkstückoberfläche (11) hindurch in das lasertransparente Werkstück (2) fokussiert, um im Werkstückinneren durch Erwärmen des Fokusvolumens eine Modifikation (12) aufzuschmelzen, wobei die Pulsparameter des einen oder der mehreren UKP-Laserpulse (5) und die Tiefe des Laserfokus im Werkstück (2) derart gewählt werden, dass der oberste Teil der aufgeschmolzenen Modifikation (12) gerade die Werkstückoberfläche (11) berührt und durch thermische Materialexpansion der aufgeschmolzenen Modifikation (12) die Werkstückoberfläche (11) nach außen zu einer konvexen Oberflächenstruktur (10) gewölbt wird.
摘要:
The invention relates to a method for producing a silica glass body, comprising the method steps: i.) providing silicon dioxide particles ii.) forming a glass melt from the silicon dioxide particles in a furnace and iii.) forming a silica glass body from at least one portion of the glass melt, wherein the furnace has a gas outlet, through which gas can be removed from the furnace and the dew point of the gas exiting the furnace through the gas outlet is less than 0°C. The invention also relates to a silica glass body that can be obtained by said method. In addition, the invention relates to a light guide, a lighting means and a shaped article, each of which can be obtained by further processing the silica glass body. The invention further relates to the adjustment of the dew point at the outlet of a furnace, comprising: providing a starting material in the furnace; operating said furnace, a gas flow being conducted through the furnace; and varying the residual moisture of the starting material or the gas exchange rate of the gas flow.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei das Bereitstellen die Schritte I. Erzeugen eines Siliziumdioxidpulvers mit mindestens zwei Teilchen hergestellt aus einer Silizium-Chlor-Verbindung, II. Kontaktieren des Siliziumdioxidpulvers mit Ammoniak unter Erhalt eines behandelten Siliziumdioxidpulvers und III. Granulieren des behandelten Siliziumdioxidpulvers zu einem Siliziumdioxidgranulat beinhaltet, und wobei der Chlorgehalt des Siliziumdioxidpulvers höher ist als der Chlorgehalt des Siliziumdioxidgranulats. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines Siliziumdioxidgranulats. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
摘要:
Die Erfindung betrifft einen Ofen beinhaltend einen Schmelztiegel mit einer Tiegelwand, eine Feststoffzuführung mit einem Auslass, einen Gaseinlass und einen Gasauslass, wobei im Schmelztiegel der Gaseinlass unterhalb des Auslasses der Feststoffzuführung angeordnet ist und der Gasauslass auf gleicher Höhe wie oder oberhalb des Auslasses der Feststoffzuführung angeordnet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen und Einführen eines Schüttguts ausgewählt aus Siliziumdioxidgranulat und Quarzglaskörnung in den Ofen und Bereitstellen eines Gases, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Schüttgut und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist, sowie einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat in einem Ofen und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Ofen einen stehenden Sintertiegel beinhaltet. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogenen Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Quarzglasköper einen OH-Gehalt von weniger als 10 ppm, einen Chlorgehalt von weniger als 60 ppm und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Formkörper und ein Gebilde, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat in einem Schmelztiegel, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze; iv.) Behandeln des Quarzglaskörpers mit mindestens einer Maßnahme ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus chemischer, thermischer oder mechanischer Behandlung unter Erhalt eines behandelten Quarzglaskörpers. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen von Siliziumdioxidpartikeln, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus den Siliziumdioxidpartikeln in einem Ofen und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Ofen einen Gasauslass aufweist, durch den Gas dem Ofen entnommen wird, wobei der Taupunkt des Gases beim Austritt aus dem Ofen durch den Gasauslass weniger als 0°C beträgt. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Quarzglaskörnung beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze und iv.) Zerkleinern des Quarzglaskörpers unter Erhalt einer Quarzglaskörnung. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Quarzglaskörnung, die durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung opake Quarzglaskörper, die durch Weiterverarbeiten der Quarzglaskörnung erhältlich sind.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat in einem Ofen und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Ofen einen hängenden Sintertiegel beinhaltet. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.