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公开(公告)号:WO2006043625A1
公开(公告)日:2006-04-27
申请号:PCT/JP2005/019299
申请日:2005-10-20
Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 片山 和俊 , 宇佐美 由久 , 角田 毅
CPC classification number: G11B7/2578 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/2478 , G11B7/248 , G11B7/2492 , G11B7/256 , G11B7/259 , G11B2007/25706 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715
Abstract: 本発明は、基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、光透過層とを備えた光記録媒体であって、前記記録層と前記光透過層との間に、Taを含む化合物又はNbを含む化合物からなる中間層を有し、該中間層の層厚が1~80nmであることを特徴とする光記録媒体を提供する。
Abstract translation: 光学记录介质在板上设置有至少包含有机染料和透光层的记录层。 在记录层和透光层之间设置由含有Ta的化合物或含有Nb的化合物构成的中间层,中间层的厚度为1-80nm。
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公开(公告)号:WO2006043526A1
公开(公告)日:2006-04-27
申请号:PCT/JP2005/019082
申请日:2005-10-18
Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 片山 和俊 , 宇佐美 由久 , 角田 毅
CPC classification number: G11B7/256 , G11B7/24079 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/2478 , G11B7/248 , G11B7/2492 , G11B7/2534 , G11B7/2542 , G11B7/2585 , G11B7/259 , G11B7/2595 , G11B2007/25706 , G11B2007/25708 , G11B2007/25715
Abstract: 基板に設けられたグルーブ上に、色素記録層、接着層、及び光透過層をこの順に有し、該光透過層側からイングルーブ部に対してレーザー光を入射することで記録及び再生を行う光情報媒体であって、 前記グルーブの溝深さをD(nm)及び溝幅をW(nm)とした場合、D×Wが5000nm 2 以上であり、かつ、イングルーブ部における前記色素記録層の厚さが0.7D~2.4D(nm)であることを特徴とする光情報媒体。
Abstract translation: 公开了一种光学信息介质,其顺序地包括染料记录层,粘合剂层和透光层,其顺序地形成在衬底中形成的凹槽上,其中通过使入射在凹槽中的激光记录或再现信息 区域。 这种光信息介质的特征在于,当凹槽的深度表示为D(nm)并且凹槽的宽度表示为W(nm)时,D×W不小于5,000nm
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公开(公告)号:WO2006112312A1
公开(公告)日:2006-10-26
申请号:PCT/JP2006/307713
申请日:2006-04-12
Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 角田 毅 , 片山 和俊 , 神沢 志保 , 河野 伸幸
CPC classification number: G11B7/2578 , G11B7/24024 , G11B7/24097 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/2475 , G11B7/2478 , G11B7/248 , G11B7/2492 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/2542 , G11B7/256 , G11B7/259 , G11B7/266 , G11B2007/24612 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716
Abstract: 基板上に、記録層、中間層、接着層およびカバーシートをこの順に有する光記録媒体であって、高温高湿保存試験前の中間層の厚さをtとした場合に、前記高温高湿保存試験後の前記中間層の厚さt 1 が、「0.8t≦t 1 ≦1.2t」である光記録媒体である。
Abstract translation: 一种光学记录介质,具有在基板上依次形成的记录层,中间层,粘合层和覆盖片,其中在高温下中间层的厚度t 1 <1 高湿度储存试验为0.8t = t 1/2 = 1.2t其中t为试验前中间层的厚度。
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