公开(公告)号：WO2015190420A1

公开(公告)日：2015-12-17

申请号：PCT/JP2015/066412

申请日：2015-06-05

Applicant: 東ソー株式会社 ,  公益財団法人相模中央化学研究所

Inventor： 尾池浩幸 ,  摩庭篤 ,  古川泰志 ,  河野和久 ,  小礒尚之 ,  多田賢一

IPC: C07F17/02 ,  C07F15/06 ,  C07F19/00 ,  C23C16/18 ,  C07C11/12 ,  C07C11/167 ,  C07C11/18 ,  C07C13/23 ,  C07C13/263

CPC classification number: C07F15/06 ,  C07C11/12 ,  C07C11/167 ,  C07C11/18 ,  C07C13/23 ,  C07C13/263 ,  C07F17/02 ,  C07F19/00 ,  C23C16/18

Abstract: 　酸化性ガスを用いない条件下でコバルト含有薄膜を作製するのに有用なコバルト錯体を提供する。　一般式（Ｉ）で示されるコバルト錯体。（式中、Ｒ Ａ は一般式（ＩＩ）（式中、Ｒ Ｈ は水素原子、又はフッ素原子で置換されていても良い炭素数１～６のアルキル基を表す。）で表されるアシル基、一般式（ＩＩＩ） （式中、Ｒ Ｈ は一般式（ＩＩ）のＲ Ｈ と同義を表す。Ｒ Ｉ は炭素数１～４のアルキル基を表す。）で表される１－トリフルオロメチル－１－シリルオキシアルキル基、一般式（ＩＶ）（Ｒ Ｊ は炭素数１～６のアルキル基を表す。Ｒ Ｋ はジ（炭素数１～３のアルキル）アミノ基で置換されていても良い炭素数１～６のアルキル基を表す。）で表されるＮ－アルキルイミドイル基、又は一般式（Ｖ）（式中、Ｒ Ｍ は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｒ Ｌ は炭素数１～４のアルキル基を表す。波線はＥ／Ｚ幾何異性体のいずれか一方もしくはそれらの混合物であることを示す。）で表されるアルケニル基を表す。ｍは０又は２を表す。Ｒ Ｂ 及びＲ Ｃ は水素原子、又は一体となって炭素数１～４のアルキレン基を形成する基を表す。Ｒ Ｄ 、Ｒ Ｅ 、Ｒ Ｆ 及びＲ Ｇ は各々独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。ただしｍが２の時、Ｒ Ａ はアシル基（ＩＩ）、１－トリフルオロメチル－１－シリルオキシアルキル基（ＩＩＩ）及びアルケニル基（Ｖ）である場合を除く。Ｒ Ａ がＮ－アルキルイミドイル基（ＩＶ）の時、Ｒ Ｂ 及びＲ Ｃ は一体となってメチレン基を形成する基である場合を除く。）

Abstract translation: 提供一种钴配合物，其可用于在不使用氧化气体的条件下制造含钴薄膜。 钴络合物由通式（I）表示。 （式中，RA表示由通式（II）表示的酰基（式中，RH表示氢原子或可以被氟原子任意取代的C 1-6烷基）; 1- 由通式（III）表示的三氟甲基-1-甲硅烷氧基烷基（式中，RH与通式（II）中的RH相同，RI表示C1-4烷基）; N-烷基 由通式（IV）表示的亚氨基（RJ表示C1-6烷基，RK表示可被二（C1-3烷基）氨基取代的C1-6烷基）;或表示为 通式（V）（式中，RM表示氢原子或C1-4烷基，RL表示C1-4烷基，波浪线表示E或Z几何异构体或其混合物。 ）m表示0或2.RB和RC表示氢原子，或表示一起形成C1-4亚烷基的基团，RD，RE，RF和RG各自独立 其代表氢原子或C 1-4烷基。 然而，m为2表示当RA表示酰基（II），1-三氟甲基-1-甲硅烷氧基烷基（III）或烯基（V）时的情况。 另外，作为N-烷基亚胺基（Ⅳ）的RA是指排除RB和RC为一起形成亚甲基的基团的情况）