公开(公告)号：WO2008153066A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：PCT/JP2008/060694

申请日：2008-06-11

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  古谷 早苗 ,  太宰 尚宏 ,  河野 紳一

Inventor： 古谷 早苗 ,  太宰 尚宏 ,  河野 紳一

IPC: C08F20/12 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F2220/281

Abstract: 　　下記一般式（ａ０－１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物。 　 ［式（ａ０－１）中、Ｒ １ は水素原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基であり；Ｒ ５ はアルキル基であり；Ｒ ６ はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される置換基であり；ｅは０～５の整数である。］

Abstract translation: 公开了具有由以下通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物。 [化学式1]（a0-1）[式（a0-1）中，R 1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R5表示烷基; R6表示选自烷基，烷氧基，卤素原子和卤代烷基的取代基; e表示0〜5的整数。]

公开(公告)号：WO2007091569A1

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：PCT/JP2007/052051

申请日：2007-02-06

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  独立行政法人理化学研究所 ,  松丸 省吾 ,  太宰 尚宏 ,  羽田 英夫 ,  藤川 茂紀 ,  国武 豊喜

Inventor： 松丸 省吾 ,  太宰 尚宏 ,  羽田 英夫 ,  藤川 茂紀 ,  国武 豊喜

IPC: C09D185/00 ,  C09D183/00 ,  G03F7/40 ,  H01L21/312

CPC classification number: H01L21/316 ,  C08G18/778 ,  C08G2190/00 ,  C09D185/00 ,  G03F7/405 ,  H01L21/312

Abstract: 　膜形成用材料の製造方法は、イソシアネート基を２個以上有する金属化合物（Ｗ）が溶剤（Ｓ）に溶解してなる膜形成用材料の製造方法であって、前記金属化合物（Ｗ）を前記溶剤（Ｓ）に溶解して得られる溶液（Ｒ１）中のイソシアン酸を除去する工程と、前記イソシアン酸を除去した後、前記溶液（Ｒ１）を不活性ガス雰囲気下でろ過する工程とを有する。

Abstract translation: 公开了一种用于制备其中具有两个或多个异氰酸酯基团的金属化合物（W）溶解在溶剂（S）中的成膜材料的方法。 具体地说，成膜材料的制造方法包括通过将金属化合物（W）溶解在溶剂（S）中而得到的溶液（R1）中除去异氰酸的工序和过滤溶液（ R1）在除去异氰酸后在惰性气体气氛中。

公开(公告)号：WO2007034719A1

公开(公告)日：2007-03-29

申请号：PCT/JP2006/318151

申请日：2006-09-13

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  塩野 大寿 ,  太宰 尚宏 ,  平山 拓 ,  葛西 耕平 ,  羽田 英夫

Inventor： 塩野 大寿 ,  太宰 尚宏 ,  平山 拓 ,  葛西 耕平 ,  羽田 英夫

IPC: C07C69/734 ,  C07C51/09 ,  C07C51/367 ,  C07C59/70 ,  C07C59/72 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C69/712 ,  C07C59/70 ,  C07C59/72 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0392

Abstract: Disclosed is a compound represented by the general formula (A-1) below (wherein R's respectively represent a hydrogen atom or an acid-cleavable dissolution inhibiting group, and at least one of them represents an acid-cleavable dissolution inhibiting group; R 11 -R 17 respectively represent an alkyl group having 1-10 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group and may include a heteroatom in the structure; g and j respectively represent an integer of not less than 1, k and q respectively represent an integer of not less than 0, and g + j + k + q is not more than 5; a represents an integer of 1-3; b represents an integer of not less than 1, l and m respectively represent an integer of not less than 0, and b + l + m is not more than 4; c represents an integer of not less than 1, n and o respectively represent an integer of not less than 0, and c + n + o is not more than 4; and A represents a group represented by the general formula (Ia) below, a group represented by the general formula (Ib) below or an alicyclic group).

Abstract translation: 公开了由下述通式（A-1）表示的化合物（其中R分别表示氢原子或酸可裂解溶解抑制基团，并且其至少一个表示酸可裂解溶解抑制基团; R 0 > 11 17 分别表示具有1-10个碳原子的烷基或芳族烃基，并且可以在结构中包括杂原子; g和j分别表示不是整数 小于1，k和q分别表示不小于0的整数，g + j + k + q不大于5; a表示1-3的整数; b表示不小于1的整数， l和m分别表示不小于0的整数，b + 1 + m不大于4; c表示不小于1的整数，n和o分别表示不小于0的整数，c + n + o不大于4; A表示由以下通式（Ia）表示的基团 下述通式（Ib）或脂环基）。