公开(公告)号：WO2010052917A1

公开(公告)日：2010-05-14

申请号：PCT/JP2009/005911

申请日：2009-11-06

Applicant: 株式会社ロキテクノ ,  富永茂 ,  近藤誠一 ,  阿部太輔 ,  榎本太郎

Inventor： 富永茂 ,  近藤誠一 ,  阿部太輔 ,  榎本太郎

IPC: C25F7/00 ,  C25F3/16

CPC classification number: C25F3/30 ,  B23H5/08

Abstract: 基板の金属膜を高速で研磨でき、また研磨時の傷の発生を防止できる研磨ヘッド、研磨装置及び基板研磨体を提供する。研磨ヘッド１０は、研磨面３１ａに開口した複数の電解液収容部Ｆ１，Ｆ２が設けられた研磨工具３０を装着可能であり、回転駆動されることによって、デバイスウエハＤの表層に設けられた金属膜Ｄ１を電気化学的機械的に研磨する研磨ヘッドであって、研磨工具３０を研磨面３１ａが鉛直方向Ｚの下側に向けられた状態で装着する工具フォルダ１２と、電解液収容部Ｆ１，Ｆ２に電解液Ｅを供給する電解液供給路１３と、電源２の研磨用電力を電解液収容部Ｆ１，Ｆ２に供給するヘッド内電気ケーブル１５ａ，１５ｂと、を備える。

Abstract translation: 公开了一种抛光头，其能够高速地抛光基板的金属膜并且防止在抛光期间产生划痕。 还公开了抛光装置和基板研磨体。 可以将具有朝向研磨面（31a）开口的多个电解液含有单元（F1，F2）的研磨工具（30）配合到的抛光头（10），电化学和机械抛光金属膜 ）通过旋转驱动形成在器件晶片（D）的表面层上。 抛光头包括：工具架（12），抛光工具（30）与沿垂直方向Z朝下的抛光表面（31a）配合;电解液供应通道（13），用于供应电解质溶液（E ）和含有电解液的单元（F1，F2）以及用于从电源（2）向电解液包含单元（F1，F2）供给用于抛光的电力的内部电缆（15a，15b）。