公开(公告)号：WO2009093448A1

公开(公告)日：2009-07-30

申请号：PCT/JP2009/000209

申请日：2009-01-21

Applicant: 株式会社industria ,  本田技研工業株式会社 ,  高橋一彰 ,  渡邉俊介

Inventor： 高橋一彰 ,  渡邉俊介

IPC: B01D21/18 ,  B01D21/24 ,  B08B3/04 ,  C25D13/00

CPC classification number: C25D21/18 ,  B01D21/0012 ,  B01D21/245 ,  B01D21/2488 ,  B08B3/041 ,  B08B3/14 ,  C25D17/02 ,  C25D21/04

Abstract: 【課題】　処理槽内の異物を確実に除去することができる処理槽内の異物除去装置を提供する。 【解決手段】　ワークＷを処理槽２の処理液１に浸漬することでワークＷから取り除かれる異物を処理槽２内から除去する処理槽内の異物除去装置であって、処理槽２の少なくとも底面６にワーク搬送方向に沿って形成した複数の凹凸形状を有する溝部７と、処理槽２に設けたホッパ４と、このホッパ４を通って循環する処理液１を処理槽２に供給する処理液供給管１２と、この処理液供給管１２から分岐して溝部７の山部１０ｂ上に配設した複数の枝管１３と、これらの枝管１３の溝部７の底部１０ａに対向する部位にホッパ４に向けて設けた処理液吐出ノズル１４を備えた。

Abstract translation: 提供了用于从处理罐中确定地除去异物的装置。 当将工件W浸入处理槽（2）中所含的处理液（1）中时，从工件W中取出的异物通过该装置从处理槽（2）的内部除去。 该装置设置有：至少在处理槽（2）的底面（6）上沿工件输送方向成形的多个凹凸部的槽部（7）。 设置在处理槽（2）上的料斗（4）; 处理液供给管（12），其通过料斗（4）向处理槽（2）供给处理液（1）。 多个分支管（13），其从所述处理液供给管（12）分支并配置在所述槽部（7）的所述凸部（10b）上。 以及处理液体排出喷嘴（14），其在与所述槽部（7）的底部（10a）相对的所述分支喷嘴（13）的部分处设置成面对所述料斗（4）。

公开(公告)号：WO2009093449A1

公开(公告)日：2009-07-30

申请号：PCT/JP2009/000211

申请日：2009-01-21

Applicant: 株式会社industria ,  本田技研工業株式会社 ,  高橋一彰 ,  渡邉俊介

Inventor： 高橋一彰 ,  渡邉俊介

IPC: C25D13/00 ,  B01F5/02 ,  B05C3/04 ,  C25D13/22 ,  C25D17/02

CPC classification number: B01F5/0206 ,  B01F15/00876 ,  B05C3/04 ,  B05C3/10 ,  C25D17/02 ,  C25D21/04 ,  C25D21/18

Abstract: 【課題】　簡易な構成で処理液を流動・攪拌させて処理液の沈降を確実に防止することができる処理槽を提供する。 【解決手段】　ワークＷを浸漬する電着塗料１を電着槽２内で流動・攪拌させる電着槽２であって、電着槽２の底面６にワーク搬送方向に沿って形成した複数の凹凸形状を有する溝部７と、電着塗料１を循環させて電着槽２に供給する電着塗料供給管１２と、この電着塗料供給管１２から分岐して溝部７の山部１０ｂ上に配設した複数の枝管１３と、これらの枝管１３の溝部７の底部１０ａに対向する部位にワーク搬送方向の上流に向けて設けた電着塗料吐出ノズル１４を備えた。

Abstract translation: 提供了一种具有简单结构的处理罐，其可以允许工艺流体流动并被搅拌以可靠地防止工艺流体的沉淀。 电沉积槽（2），其中浸入了工件（W）的电沉积涂层（1）被允许流动并在电沉积罐（2）中搅拌，其中， 电沉积槽（2），其具有在工件输送方向上形成有多个脊和谷的带槽部分（7）;电沉积涂层供应管（12），其使电沉积涂层（1）循环并将其供应到电沉积 罐（2），布置在从电沉积涂料供应管（12）分支的带槽部分（7）的脊（10b）上的多个分支管（13），以及电沉积涂布排出喷嘴（14） 其中分支管（13）面对凹槽部分（7）的谷（10a）的工作输送方向。